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グラフェンシートの製造方法

シーズコード S120008473
掲載日 2012年1月31日
研究者
  • 橋本 明弘
技術名称 グラフェンシートの製造方法
技術概要 触媒金属層を形成した基板上に炭素含有ガスを供給してグラフェンシートを形成する製造方法であって、所定の性質を有する基板を準備する工程と、この基板の少なくとも一面に、少なくとも一つのライン状の触媒金属層を位置決めして形成する工程と、前記触媒金属層を形成した前記基板を容器内に収容し、所定環境下で前記基板を加熱する工程と、前記基板の少なくとも前記触媒金属層を形成した面に、炭素含有ガスを供給する工程とを有し、前記触媒金属層の基板からの高さを、形成しようとするグラフェンシートの膜厚及び層数に応じた高さとしたことを特徴とするグラフェンシートの製造方法。触媒金属層と触媒金属層との間に溝を形成し、この溝に沿って、一方の触媒金属層から成長したグラフェンシートと他方の触媒金属層から成長したそれを分離できるようにしたことを特徴とする製造方法。炭素含有ガスを供給する前に、容器内部を真空状態にするか、又は、容器内に所定のガスを充填したことを特徴とする製造方法。触媒金属層が、W、Ni、Fe、Co、Y、Pd、Pt、Au、Mo、Ag及びCuのいずれか一種の純金属又は二種以上を含む合金であることを特徴とする製造方法。
画像

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研究分野
  • 無機化合物の薄膜
  • 炭素とその化合物
展開可能なシーズ 数百μm幅を越える大面積のグラフェンシートの製造が容易で、かつ、グラフェンシートの形成位置,形状及び大きさの制御が可能なグラフェンシートの製造方法を提供する。
基板上に形成したライン状の触媒金属層の長さに応じた長さを有する大面積のグラフェンシートを容易に製造することができる。また、触媒金属層の基板からの高さを調整することで、所望の膜厚のグラフェンシートを容易に製造することができる。さらに、基板上における触媒金属層の形成位置を調整することで、基板上におけるグラフェンシートの形成位置を精密に制御することが可能である。また、大面積で面積調整及び形状調整の容易なグラフェンシートの大量生産が可能で、かつ、グラフェンシートの生産の自動化も可能になる。
用途利用分野 グラフェンシート
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人福井大学, . 橋本 明弘, . グラフェンシートの製造方法. 特開2009-091174. 2009-04-30
  • C01B  31/04     

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