TOP > 技術シーズ検索 > レジストの積層構造体およびレジストパターンの形成方法

レジストの積層構造体およびレジストパターンの形成方法

シーズコード S120008579
掲載日 2012年2月3日
研究者
  • 堀内 敏行
  • 深澤 裕年
技術名称 レジストの積層構造体およびレジストパターンの形成方法
技術概要 銅箔付きプラスチック基板の表面に金を薄くスパッタした下地基板1上に、波長200~410nmの遠紫外光~短波長可視光の範囲に主たる感光波長帯を有する下層レジストを付し、その上にアルカリに溶解する金属膜、その上に液晶パネルを透過して明暗差が大きくとれる波長420nm~530nmの青色可視光を用いて感光させることができる上層レジストを付した積層構造体とする。上層レジストを液晶パネルに指定したパターン形状に感光させてアルカリ現像すると、金属膜もパターン化され、波長200~410nmの遠紫外光~短波長可視光を当てると、金属膜パターンが遮光マスクとして働き、下層レジストにパターンを転写できる。図には、工程(a)で、積層構造体を作る工程から、工程(f)において、感光部16を有する下層レジスト4を有機現像液17によって現像すると、下地基板1に下層レジスト4のパターン18が形成される工程までを示す。
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

thum_2008-251615.gif
研究分野
  • 固体デバイス製造技術一般
  • LCR部品
展開可能なシーズ 基板上に波長200~410nmの遠紫外光~短波長可視光に主たる感光波長帯を有するレジストを付し、レジストを任意のパターン形状に露光したのち現像してパターン化し、めっき雌型やマイクロ流路として使用するための、レジストの積層構造体およびレジストパターンの形成方法を提供する。
液晶パネルをレチクルの代替として、液晶パネル上に表示したパターンを投影レンズなどの投影光学系を介して投影露光する、液晶マトリックス投影露光法や、液晶パネルをマスクの代替として、被露光物に密着または近接させて露光する方法を利用して、レチクルやマスクなどの原図基板を用いずに、波長200~410nmの遠紫外光~短波長可視光に主たる感光波長帯を有するレジストのめっき雌型パターンやマイクロ流路パターンを高精度、高アスペクト比で簡便に形成することができる。これにより、多品種少量生産のめっき雌型やマイクロ流体機器のマイクロ流路を短納期で安価に製作することができる。そして、めっき雌型にニッケルなどの金属をめっきすれば、微細で複雑な形状のマイクロ金属部品を容易に短納期で安価に製作することができる。
用途利用分野 レジスト積層構造体、積層構造体、ネガ型レジスト、めっき雌型、マイクロ流路
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人東京電機大学, . 堀内 敏行, 深澤 裕年, . レジストの積層構造体およびレジストパターンの形成方法. 特開2010-061085. 2010-03-18
  • G03F   7/095    
  • G03F   7/40     
  • H01L  21/027    

PAGE TOP