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原子状水素吸着除去方法およびその装置

シーズコード S120008770
掲載日 2012年2月13日
研究者
  • 並木 章
  • 和泉 亮
  • 鶴巻 浩
技術名称 原子状水素吸着除去方法およびその装置
技術概要 インコネルを加熱することによりインコネルに吸着した原子状水素を脱離させる脱離工程と、インコネルを、原子状水素を含む対象ガス中に暴露することにより対象ガス中の原子状水素を吸着除去する吸着除去工程とを含むことを特徴とする原子状水素吸着除去方法。インコネルとインコネルを加熱する加熱機構とからなる吸着除去部を備え、原子状水素を脱離した状態のインコネルを、原子状水素を含む対象ガス中に暴露して用いることを特徴とする原子状水素吸着除去装置。
画像

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研究分野
  • 金属組織学
展開可能なシーズ 近年、半導体産業を中心に原子状水素を利用した基板の表面洗浄技術が注目を浴びている。また、薄膜堆積過程において、原料材料から発生する原子状水素が半導体デバイスの性能を決定することが明らかにされている。そのため、原子状水素の発生量を定量する技術および原子状水素の量を制御するための原子状水素を除去する技術が求められている。原子状水素量を正しく測定する方法として、2光子レーザー誘起蛍光法や真空紫外吸収法等がある。しかしながら、これらの方法は、いずれも大型のレーザー装置が必要となるため、装置構成が複雑になり、また装置コストが嵩んでしまうなどの問題がある。解決しようとする問題点は、原子状水素を除去する方法がない点である。本発明は原子状水素を除去することができる原子状水素吸着除去方法およびその装置を提供する。
原子状水素を顕著に吸脱着可能な材料を利用して対象ガス中の原子状水素を除去することができる。
用途利用分野 原子状水素吸着除去装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人九州工業大学, . 並木 章, 和泉 亮, 鶴巻 浩, . 原子状水素吸着除去方法およびその装置. 特開2008-031040. 2008-02-14
  • C01B   3/00     
  • B01D  53/02     
  • B01D  53/04     
  • B01J  20/02     
  • B01J  20/34     

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