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無端状パターンの作製方法、樹脂パターン成形品の製造方法、無端状モールド、樹脂パターン成形品、及び光学素子

シーズコード S120009123
掲載日 2012年2月24日
研究者
  • 谷口 淳
技術名称 無端状パターンの作製方法、樹脂パターン成形品の製造方法、無端状モールド、樹脂パターン成形品、及び光学素子
技術概要 無端状パターンの作製方法は、以下の工程を有する。(1A)電子ビーム又はイオンビームの照射により硬化又は可溶化する基板を、回転方向に回転させる工程、(2)電子ビーム又はイオンビームを照射する工程、(3)照射により又は照射後の現像により、基板の一部を除去する工程、である。また、基板が電子ビーム又はイオンビームの照射によって硬化及び可溶化しない材料で形成されている場合は、(1A)の工程に変えて、(1B)円周方向に無端の無感応性基板上に電子ビーム又はイオンビームの照射によって硬化又は可溶化する膜が付与された、基板を回転方向に回転させる工程を有する。更に、これらの作製方法では、(1A)又は(1B)の基板の回転工程と、(3)の照射工程は、別工程として行っても、同時に行なってもよい。つまり、基板を回転方向に回転させながら電子ビーム又はイオンビームを照射してもよいし、電子ビーム又はイオンビームの照射時に基板を回転させず、照射していないときに基板を回転させて全周面を照射してもよい。図は、(2A)の連続照射方法における電子ビーム又はイオンビームの照射方法の円筒状基板を斜視的に示した模式図である。
画像

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研究分野
  • 成形
  • 成形工程とその装置一般
  • 光デバイス一般
展開可能なシーズ 無端状モールドなどに適用し得る無端状パターンを電子ビーム又はイオンビームの照射によって作製する方法を提供する。また、前記無端状モールドをナノインプリントの型として用いる樹脂パターン成形品の製造方法を提供する。更に、これらの製造方法によって得られる無端状モールド、樹脂パターン成形品、及び光学素子を提供する。
ロールナノインプリント等に用いることのできる無端状パターン(無端状モールド)を提供することができる。また、無端状モールドをナノインプリントの型として用いる樹脂パターン成形品の製造方法を提供できる。更に、無端状モールド、樹脂パターン成形品、及び光学素子を提供できる。
用途利用分野 無端状パターン、無端状モールド、樹脂パターン成形品、光学素子、ロールナノインプリント用型
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人東京理科大学, . 谷口 淳, . 無端状パターンの作製方法. 特開2009-223310. 2009-10-01
  • G03F   7/20     
  • B29C  33/40     
  • H01L  21/027    
  • B29C  59/04     
  • B29L  11/00     

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