TOP > 技術シーズ検索 > レーザ加熱装置

レーザ加熱装置

シーズコード S130009536
掲載日 2013年6月5日
研究者
  • 鯉沼 秀臣
  • 川崎 雅司
技術名称 レーザ加熱装置
技術概要 レーザ加熱装置は、薄膜形成用基板を加熱するための加熱装置であって、成膜装置の真空チャンバ内に設置された基板に対してレーザ光を照射することにより、基板を所定温度に加熱する。レーザ光は光ファイバにより基板付近まで誘導され、光ファイバ先端から直接的または間接的に基板に対してレーザ光を照射する。光ファイバは外装パイプ内に挿通するとともに、外装パイプ内は真空引きされている。光ファイバ先端から反射ミラーを介して、基板にNd:YAGレーザ光が照射される。さらに、基板を保持する基板ホルダーを備えており、この基板ホルダーが保持する基板の周囲にスリット状の孔を有している。また基板ホルダーがレーザ光を受光する部分はレーザ光の吸収効率の良い材料で形成されており、その表面は、金属の酸化膜及びセラミックスでコーティングされている。さらに、コーティング及び薄膜材料が蒸発しないように透明物質で保護されている。
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

thum_1998-258973.gif
研究分野
  • 薄膜成長技術・装置
  • レーザの応用
展開可能なシーズ 真空成膜装置において効率的にかつ適正に試料基板を加熱し得るレーザ加熱装置を提供する。
基板の加熱方式としてレーザ光を使用することにより、酸化雰囲気下での使用が可能になり、また絶縁性基板でも有効に加熱することができる。このように装置の適用範囲が大幅に拡大され、その場合磁気ノイズの発生がなく、正確な分析結果等を得ることができる。
用途利用分野 薄膜製造装置、レーザ加熱装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, . 鯉沼 秀臣, 川崎 雅司, . レーザ加熱装置. 特開2000-087223. 2000-03-28
  • C23C  14/24     

PAGE TOP