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基板マスキング機構およびコンビナトリアル成膜装置

シーズコード S130009622
掲載日 2013年6月5日
研究者
  • 鯉沼 秀臣
  • 松本 祐司
技術名称 基板マスキング機構およびコンビナトリアル成膜装置
技術概要 マスキング機構(図2参照)を備えたコンビナトリアル成膜装置(図1)であって、真空チャンバ、ターゲット、レーザー装置、基板、基板加熱手段、酸素ガス供給管、基板マスキング機構、さらに、基板マスキング機構を上下動可能に支持し、且つ基板を回転可能に支持する支持機構とを備え、基板マスキング機構が、基板至近位置にマスクを配置し、このマスクの孔を通して成膜領域が設定されるようにしているのが特徴で、マスク(12)が、基板(1)表面の一部と接触する接触面及びこの接触面の略中央部に形成された孔(13)を有する接触部と、この接触部が基板面に接触した際に接触部周辺の基板面を遮蔽するシールド部とを備え、このシールド部が、基板からマスクへの熱伝導を小さくするように、先端がエッジ状に形成された周縁部を有しており、マスクを基板面に接触して成膜する際に、マスクの孔周辺の基板面を遮蔽することにより、蒸発したターゲット原子が回り込んで進入するのを阻止し、マスクの孔により成膜領域を正確に規定している。マスクの材質は、インコネル・ステンレス鋼であれば好ましく、この場合には、マスクの熱膨張係数が小さい。
画像

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研究分野
  • 薄膜成長技術・装置
  • レーザの応用
  • 固体デバイス製造技術一般
展開可能なシーズ 単一基板上に複数の薄膜を適正かつ効率的に形成可能な基板マスキング機構およびこの基板マスキング機構によるコンビナトリアル成膜装置を提供する。
マスクの孔周辺の基板面を遮蔽することにより、蒸発したターゲット原子が回り込んで進入するのを阻止し、マスクの孔により成膜領域を正確に規定することができる。また、1枚の基板上に複数の薄膜をシーケンシャルに堆積させていくことで、成膜条件の異なる薄膜を効率よく、しかも適正に形成することができる。
用途利用分野 成膜装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, . 鯉沼 秀臣, 松本 祐司, . 基板マスキング機構およびコンビナトリアル成膜装置. 特開2002-069613. 2002-03-08
  • C23C 14/04    ZCC

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