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X線管ターゲット

シーズコード S130009685
掲載日 2013年6月5日
研究者
  • 志水 隆一
技術名称 X線管ターゲット
技術概要 内部に真空室を形成する装置本体と熱電子を放出する電子銃と回転対陰極とを備えたX線発生装置におけるX線管ターゲットにおいて、(a)傾斜を有する円錐台形形状をなし、(b)基材として銅を用い、その銅の表面をタングステン(W)膜で被覆し、このW膜の厚さを0.1μmから0.7μmとなし、(c)電子ビームの入射角が10°から50°で、かつ、W‐連続X線の取り出し角が40°から90°の範囲にあることを特徴とする。X線管ターゲットにおいて、電子ビームの加速度電圧が30kV、40kV,および50kVの場合、W膜の厚さは、それぞれ、略0.3μm、0.5μmおよび0.7μmであり、W膜の厚さは、好ましくは0.1μm~0.7μmである。図1にはX線管ターゲットの構成断面図を示す。1:円錐台形X線管ターゲット、2:基材(銅)、3:金属被覆膜(W)、4:X線管ターゲットの回転中心軸、5:金属被覆膜表面に対する垂直線、6:入射電子ビーム、7:取り出されるX線、α入射角、θは取り出し角を示す。
画像

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thum_2001-176616.GIF
研究分野
  • 光電変換管
  • 線源,照射装置
  • X線技術
展開可能なシーズ 表面金属の厚みをより薄くし、基材である銅により熱伝導を高め、冷却効果を向上させるとともに、効率よくX線を取り出すことができるX線管ターゲットを提供する。
表面金属(被覆金属膜)の厚みを0.1μmから0.7μmと薄くして、基材である銅により熱伝導を高め、冷却効果を向上させるとともに、効率よくX線を取り出すことができる。
用途利用分野 X線管
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, . 志水 隆一, . X線管ターゲット. 特開2002-367549. 2002-12-20
  • H01J  35/10     
  • G21K   5/08     
  • H05G   1/00     

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