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窒化シリコン膜の製造方法

シーズコード S130009833
掲載日 2013年6月5日
研究者
  • 南川 俊治
  • 部家 彰
  • 小泉 彰夫
  • 室井 進
  • 増田 淳
  • 梅本 宏信
  • 松村 英樹
  • 仁木 敏一
技術名称 窒化シリコン膜の製造方法
技術概要 有機ELデバイスが形成された被堆積材に窒化シリコン膜を封止膜として形成する例を図示する。図の(a)に示す有機ELデバイスは、プラスチックフィルム3a上に窒化シリコン膜1、下層電極層4、有機EL層5、及び上層電極層6を形成するものであり、プラスチックフィルム3a側から(図中、下方に向かって)発光を取り出し、画像等を表示する。この場合、これら下層電極層4、有機EL層5、及び上層電極層6を覆って窒化シリコン膜1が成膜されるとともに、反対側の内面、すなわちプラスチックフィルム3aの内表面にも窒化シリコン膜1が成膜される。図の(b)に示すように、上層電極層6側から(図中、上方に向かって)発光を取り出し、画像等を表示する場合には、ガラス等のバリア性の良い材料からなる基板3bに下層電極層4、有機EL層5、及び上層電極層6を形成する被堆積材2上に窒化シリコン膜1を成膜すればよい。この場合、基板3bは透明でなくてもよい。この窒化シリコン膜1は、透明性に優れ水蒸気や酸素に対するバリア性にも優れているので、有機EL層5への水分の侵入を確実に防止できる。また、窒化シリコン膜1が発光の妨げになることもない。
画像

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研究分野
  • 有機化合物のルミネセンス
  • 無機化合物の薄膜
  • 半導体の表面構造
展開可能なシーズ 低温で高速に成膜され、水蒸気や酸素等の透過を阻止する能力が高く、透明で密着性に優れた窒化シリコン膜の製造方法を提供する。
水蒸気や酸素等の透過を阻止する能力が高く、透明で密着性に優れた窒化シリコン膜を、低温で高速成膜することが可能である。したがって、バリア性に優れた高品位なガスバリア材料等を提供することが可能である。
用途利用分野 窒化シリコン膜、封止膜、バリアフィルム、半導体デバイス、有機ELデバイス、ガスバリア材料
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 株式会社石川製作所, 石川県, 独立行政法人科学技術振興機構, 仁木 敏一, . 南川 俊治, 部家 彰, 小泉 彰夫, 室井 進, 増田 淳, 梅本 宏信, 松村 英樹, 仁木 敏一, . 窒化シリコン膜の製造方法. 特開2004-292877. 2004-10-21
  • C23C  16/42     
  • B32B   9/00     
  • C01B  21/06     
  • H01L  21/318    

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