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炭素薄膜の加工方法及び製造方法

シーズコード S130009871
掲載日 2013年6月5日
研究者
  • 安丸 尚樹
  • 宮崎 健創
  • 木内 淳介
技術名称 炭素薄膜の加工方法及び製造方法
技術概要 図は、特に材料への熱影響の少ない超短パルスレーザーを用いた加工装置である。フェムト秒レーザー発振器1は、モード同期チタン・サファイアレーザーを用いて、レーザーパルスを発振し、このレーザーパルスは、パルス伸長器2でパルス幅が伸長されて増幅器3でパルスエネルギーが増幅される。増幅されたレーザーパルスは、必要に応じて光減衰器4で強度が減衰された後パルス圧縮器5でパルス幅が圧縮され、パルス幅40フェムト秒、最大パルスエネルギー40ミリジュール、繰り返し周波数10Hz、波長800nmの高強度なフェムト秒レーザーとなる。得られたフェムト秒レーザーは、波長板6により偏光制御され、フィルター7及びレンズ8を通過して、試料台10に載置した固体材料からなる試料9の表面に照射される。波長板6は、直線偏光(縦方向、横方向)、円偏光など必要に応じ選択・制御される。直線偏光の偏光方向を制御する場合はλ/2板を配置して光軸に垂直な面内で同波長板6を回転すればよい。また、円偏光及び楕円偏光の場合には、λ/4板を配置すればよく、同波長板を光軸に垂直な面内で回転することによって、円偏光及び任意の楕円偏光を生成できる。
画像

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研究分野
  • 固体レーザ
  • 無機化合物の薄膜
  • 固体デバイス製造技術一般
展開可能なシーズ 硬質カーボン膜からガラス状炭素を形成すること、あるいは硬質カーボン膜中にガラス状炭素を形成することで両者の長所を併せ持つ炭素薄膜構造並びに炭素薄膜の加工方法及び製造方法を提供する。
硬質カーボン膜の少なくとも一部の領域にガラス状炭素が形成されているので、硬質カーボン膜及びガラス状炭素の長所を併せ持つ炭素薄膜構造とすることができる。すなわち、硬質カーボンは成膜が容易で、基材表面への密着性を高め、そして、ガラス状炭素を形成することで、耐食性、耐摩耗性、耐熱性、潤滑性、離型性、ガス不透過性及び導電性などの特性を与える。また、硬質カーボン膜がベースとなるため、ガラス状炭素を膜状に形成する場合の収縮の問題を避けることができ、精密加工や微細加工を行う場合にも被加工物表面に精密にガラス状炭素を形成できる。
用途利用分野 炭素薄膜構造、半導体素子製造装置、生体内医療器具、超短パルスレーザー加工装置、フェムト秒レーザー発振器、非平衡マグネトロンスパッタリング装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, アイテック株式会社, . 安丸 尚樹, 宮崎 健創, 木内 淳介, . 炭素薄膜の加工方法及び製造方法. 特開2005-133129. 2005-05-26
  • C23C  14/58     
  • C23C  14/06     
  • C01B  31/06     

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