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偏光解析装置

シーズコード S130009877
掲載日 2013年6月5日
研究者
  • 川上 彰二郎
  • 佐藤 尚
  • 橋本 直樹
技術名称 偏光解析装置
技術概要 偏光解析装置は、透過する偏波の方向が異なる複数の領域を有する偏光子アレイ903と、透過光に与える位相差は一定で、かつ光軸方向が異なる複数の領域を有する波長板アレイ1001とを有し、波長板アレイ1001を前面、偏光子アレイ903を後面として重なるように配置され、波長板のある領域と偏光子のある領域を通過した光を個別に受光することのできるような受光素子アレイ503を2次元的に配置したものである。ここで、波長板アレイと偏光子アレイおよび受光素子アレイ503は直接貼り合わせて一体化することも可能であるが、各アレイ間にリレーレンズを配置して、それぞれのアレイ透過後の像を次のアレイへと結像させてもよい。また、全偏波状態にわたって高精度な偏波解析を実現するためには、波長板アレイの各領域の位相差は1/4波長(π/2ラジアン)であり、波長板アレイの光軸方向および偏光子アレイの光軸方向は少なくとも0°から180°の範囲を網羅していることが望ましい。さらに、偏光子アレイおよび波長板アレイの領域の分割数が多いほど測定精度は高くなる。
画像

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研究分野
  • 光物性一般
展開可能なシーズ 可動部がなく、高速かつ精度の高い測定が行える偏光解析装置およびエリプソメータを提供し、さらに薄膜形成における膜厚制御装置を提供する。
偏光解析装置およびエリプソメータは、駆動部が無く、高速な測定ができ、エリプソパラメータであるΨとΔを高精度で測定することができる。また構成部品は小型であり、位置調整も簡便であることから低コストで実現することができる。したがって、従来は高価な大型装置を用いてオフラインで測定していたものを、1台の薄膜製造装置に複数個のエリプソメータを設置して、オンラインで測定することも可能になる。薄膜製造の制御あるいは品質管理用に適しており、従来の方法を置き換えることが可能である。
用途利用分野 偏光解析装置、エリプソメータ、膜厚制御装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 株式会社フォトニックラティス, 国立研究開発法人科学技術振興機構, . 川上 彰二郎, 佐藤 尚, 橋本 直樹, . 偏光解析装置. 特開2005-114704. 2005-04-28
  • G01J   4/04     
  • G01N  21/21     
  • G02B   5/30     

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