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新規なナノポーラス炭素構造を有する吸蔵材料、及びその製造法

シーズコード S130009946
掲載日 2013年6月5日
研究者
  • 王 正明
  • 廣津 孝弘
  • 山岸 美貴
  • 楚 英豪
技術名称 新規なナノポーラス炭素構造を有する吸蔵材料、及びその製造法
技術概要 メタンなどの炭化水素ガスなどを吸蔵や吸着することができるナノポーラス炭素構造を有する吸蔵材料、及びその製造方法である。ナノポーラス炭素構造材料の製造工程は、(1)グラファイトを酸化してグラファイト酸化物とする工程、(2)グラファイト酸化物の層面間距離を固定化する工程、(3)固定化された層面間距離を有する炭素の層を維持するために炭素の層と炭素の層の間にヒドロキシ炭化水素化合物を添加する工程、(4)層面間距離を固定化している材料と(3)の工程で添加したヒドロキシ炭化水素化合物を反応させる工程、(5)未反応のヒドロキシ炭化水素化合物を除去する工程、(6)残存しているヒドロキシ炭化水素化合物を炭化処理して炭化処理物にする工程、(7)残存する層面間距離を固定化している材料を除去する工程、よりなる。層面間距離を固定化する工程は、グラファイト酸化物の層間に、ケイ素、アルミニウム、等から選ばれた金属又は半金属の化合物のゾル或いは多核金属陽イオンをインターカレーションさせ、次にこれを不活性雰囲気中で加熱処理して金属又は半金属の酸化物とする工程を含む。
画像

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研究分野
  • 炭素とその化合物
展開可能なシーズ 新規なグラファイト系の新規なナノポーラス炭素構造を有する吸蔵材料及びその製造方法を提供する。層面間距離が通常のグラファイトよりも拡大されたナノポーラス炭素構造を有する吸蔵材料の製造方法を提供する。メタンなどの炭化水素の吸蔵に適した炭素系の炭化水素吸蔵材料、及びその製造法を提供する。
新規なグラファイト系の新規なナノポーラス炭素構造を有する吸蔵材料及びその製造方法を提供する。このナノポーラス炭素構造を有する吸蔵材料は、グラファイトの層間距離を維持するためのピラー部分が選択的に炭化処理されたものであり、薄いグラフェン層を壁とする多孔質層状化合物は、表面積を向上させ、広い親油性表面を有効活用することができる。このナノポーラス炭素構造を有する吸蔵材料は、炭素の親油性の表面の大部分をそのまま維持しており、大きな表面積を有効活用できるため、ガス貯蔵・吸着・触媒等の分野から期待されている。また、メタンなどの炭化水素の貯蔵、輸送、及び利用のための新規な材料を提供する。
用途利用分野 炭化水素ガス吸蔵材料、炭化水素ガス吸着材、触媒
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, 国立研究開発法人産業技術総合研究所, . 王 正明, 廣津 孝弘, 山岸 美貴, 楚 英豪, . 新規なナノポーラス炭素構造を有する吸蔵材料、及びその製造法. 特開2006-219337. 2006-08-24
  • C01B  31/04     
  • B01J  20/20     

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