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ナノライティング装置における傾き補正装置

シーズコード S130010064
掲載日 2013年6月6日
研究者
  • 磯野 吉正
  • 佐々木 徹
技術名称 ナノライティング装置における傾き補正装置
技術概要 ナノライティング装置は、ベース1と、ベース1に固定された支持部2と、ベース1上に設置され、搭載された物をX軸及びY軸方向に粗く変位させるXY粗動部3と、XY粗動部3の上に設置され、搭載された物をX軸、Y軸及びZ軸方向に微小変位させるXYZ微動部4と、支持部2に固定され、取り付けられた物をZ軸方向に粗く変位させるZ粗動部5と、傾き補正装置8とを備えている。本傾き補正装置8は、変位生成部6とレーザ照射部7とから構成されており、変位生成部6及びレーザ照射部7が相互に固定され、変位生成部6がZ粗動部5に固定されている。従って、傾き補正装置8は、Z粗動部5によって、Z軸方向に粗く変位される。マルチプローブを用いた表面加工の対象物である平板状の試料SがXYZ微動部4に搭載されている状態を示している。この傾き補正装置8は、ナノライティング装置による描画の前に、マルチプローブの傾きを補正し、各プローブが均等な力で試料表面に当接されるようにする。これによって、ナノライティング装置による高精度の描画が可能となる。
画像

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研究分野
  • レーザの応用
展開可能なシーズ マルチプローブを用いて描画を行う前に、精度良く且つ効率的にマルチプローブを描画対象物の表面に平行に配置することができるナノライティング装置における傾き補正装置を提供する。
一列の描画用プローブ(マルチプローブ)の両端の2つのプローブ(カンチレバー)の先端部を、描画対象の試料面からほぼ等距離に調節することができ、マルチプローブ全体を描画対象物の表面にほ ぼ平行に配置することができる。
用途利用分野 走査プローブ顕微鏡、レーザ描画装置、リソグラフィー装置、露光装置、
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人立命館, 国立研究開発法人科学技術振興機構, 株式会社ユニソク, . 磯野 吉正, 佐々木 徹, . ナノライティング装置における傾き補正装置. 特開2008-070168. 2008-03-27
  • G01Q  70/06     
  • G01Q  10/02     

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