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ジオール又はポリジオールの製法

シーズコード S130010067
掲載日 2013年6月6日
研究者
  • 細野 秀雄
  • ブッチャマガリ ハリタ
  • 戸田 喜丈
  • 平野 正浩
  • 小坂田 耕太郎
  • 竹内 大介
技術名称 ジオール又はポリジオールの製法
技術概要 ケージ内に、1019cm-3超、2.3×1021cm-3未満の電子を含む12CaO・7Alエレクトライドを還元剤として用い、カルボニル化合物を溶媒中において還元的カップリングさせる方法である。例えば、カルボニル化合物としてベンズアルデヒドを用いた場合は、還元カップリング反応により、1,2-ジフェニル-1,2-エタンジオールを生成することができる。図に還元カップリング反応を示す。
画像

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研究分野
  • 付加反応,脱離反応
展開可能なシーズ ケージ内に、1019cm-33超、2.3×1021cm-3未満の電子を含む12CaO・7Alエレクトライドとカルボニル化合物をカルボニル化合物に対する12CaO・7Alエレクトライドの使用量を重量比で2~20倍として、水、有機溶媒、又は水―有機混合溶媒中において混合して反応溶液を形成し、反応溶液中においてカルボニル化合物を還元的カップリングさせて、反応溶液から生成物を抽出するジオール又はポリジオールの製法技術を提供する。
高価かつ有害な金属化合物又は金属塩を用いることなく、かつ、従来法のように不活性ガス雰囲気下に制限されずに、短時間かつ容易な操作でカルボニル化合物を原料として、ジオール又はポリジオールを合成できる。
用途利用分野 ジオール、ポリジオール、ジオール製造技術、ポリジオール製造技術
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 独立行政法人科学技術振興機構, . 細野 秀雄, ブッチャマガリ ハリタ, 戸田 喜丈, 平野 正浩, 小坂田 耕太郎, 竹内 大介, . ジオール又はポリジオールの製法. 特開2008-088082. 2008-04-17
  • C07B  41/02     
  • C07C  33/26     
  • C07C  43/23     
  • C07C 205/19     
  • C07C  39/14     
  • C07C 255/53     

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