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感光性樹脂組成物とその薄膜及びパターン形成方法

シーズコード S130010297
掲載日 2013年6月6日
研究者
  • 川崎 真一
  • 藤木 剛
  • 松川 公洋
  • 濱田 崇
技術名称 感光性樹脂組成物とその薄膜及びパターン形成方法
技術概要 カチオン重合性基(エポキシ基など)を有するビニル単量体とポリシランとの共存系を光照射して得られたカチオン重合性基を含有するブロックとポリシランブロックとを有するブロック共重合体が、光反応性(光カチオン重合性など)に優れパターニングが可能であること、このブロック共重合体を光カチオン重合すると、誘電率の周波数依存性が小さいとともに、誘電分散がなく、疎水性及び電気絶縁性の高い薄膜パターンを形成できること、このような薄膜パターンが有機半導体の絶縁膜として適していることを利用する。感光性樹脂組成物は、カチオン重合性基を含有するブロックとポリシランブロックとを有するブロック共重合体を含んでいる。前記カチオン重合性基を含有するブロックは、エポキシ基を含むビニル単量体のポリマーブロックで構成できる。
画像

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研究分野
  • 有機化合物の薄膜
  • トランジスタ
展開可能なシーズ 光反応性が高くパターニングが可能であるとともに、疎水性が高く誘電特性に優れる被膜を形成できる感光性樹脂組成物とその薄膜及びパターン形成方法を提供すること。また、誘電率の周波数依存性が小さいとともに、誘電分散がなく、電気絶縁膜を形成できる感光性樹脂組成物とその薄膜及びパターン形成方法を提供すること。さらに、有機半導体の絶縁膜を形成するのに有用な感光性樹脂組成物とその薄膜及びパターン形成方法を提供すること。
感光性樹脂組成物がエポキシ含有ブロックとポリシランブロックとを有するブロック共重合体を含むので、リソグラフィなどのパターン形成方法を利用して、疎水性が高く誘電特性に優れる被膜(薄膜パターンなど)を形成できる。また、誘電率の周波数依存性が小さいとともに、誘電分散がなく、電気絶縁膜を形成できる。そのため、有機半導体の絶縁膜を形成するのに有用である。
用途利用分野 感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物の薄膜、電子デバイス
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 大阪瓦斯株式会社, 国立研究開発法人科学技術振興機構, 地方独立行政法人 大阪市立工業研究所, . 川崎 真一, 藤木 剛, 松川 公洋, 濱田 崇, . 感光性樹脂組成物とその薄膜及びパターン形成方法. 特開2011-180269. 2011-09-15
  • G03F   7/038    
  • G03F   7/075    
  • G03F   7/004    
  • G03F   7/40     
  • H01L  21/027    

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