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有機デバイスの製造方法および当該製法で得られた有機デバイス

シーズコード S130010337
掲載日 2013年6月6日
研究者
  • 中村 栄一
  • 曽我 巌
  • 佐藤 佳晴
  • 尾畑 直樹
  • 田中 秀幸
技術名称 有機デバイスの製造方法および当該製法で得られた有機デバイス
技術概要 本発明の有機デバイス用薄膜の製造方法は、図1に示すように、基板1の上に形成された有機物薄膜層Aに被覆層Bを形成した後、有機物薄膜層Aを機能膜層Cに構造変化させてから、被覆層Bを除去する方法である。すなわち、有機物薄膜層が、機能膜層に含まれる物質を含む場合、有機物薄膜層を形成した時点(被覆層形成前)では所定の機能を十分に発現できない状態あるいは構造的に不安定な状態にとどまっている。このような有機物薄膜層に被覆層を形成した後、たとえば、相変化等の物理的な構造変化を生じさせることにより、安定して機能を十分に発現できる機能膜層を得ることができる。また、有機物薄膜層が、化学的構造変化が生じることにより機能膜層を構成する物質に変換する物質(前駆体)で構成される場合には、被覆層を形成した後、化学的な構造変化を生じさせることにより、所定の機能を発現する機能膜層とすることができる。
画像

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研究分野
  • 発光素子
展開可能なシーズ 構造が安定的に制御された、高い機能性を有する有機デバイス用薄膜を提供する。
基板上に形成した有機物薄膜層を物理的あるいは化学的方法により機能性膜に変換するので、安定的に制御された構造と高い性能を有する機能性薄膜が実現できる。
用途利用分野 太陽電池、平面型表示装置、光センサ、薄膜トランジスタ
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, 三菱ケミカル株式会社, . 中村 栄一, 曽我 巌, 佐藤 佳晴, 尾畑 直樹, 田中 秀幸, . 有機デバイスの製造方法および当該製法で得られた有機デバイス. 特開2012-049168. 2012-03-08
  • H01L  51/48     
  • H01L  51/46     

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