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薄膜形成装置並びに薄膜形成方法

シーズコード S130010487
掲載日 2013年6月6日
研究者
  • 吉田 善一
技術名称 薄膜形成装置並びに薄膜形成方法
技術概要 チャンバー15にレーザ光入射窓14を設け、その外部近傍には、例えばエキシマレーザ等のレーザ発振器11及び集光レンズ13を設ける。レーザ発振器11から発振されたアブレーション用レーザ光12は、レーザ光入射窓14からチャンバー15に入射し、集光レンズ13により所定の位置12aに集光させる。チャンバー15には真空ポンプ16を設け、チャンバー15内を真空にすることができる。チャンバー15の内部には、レーザ光入射窓14に対向する位置にステージ20を設け、ステージ20には基板21を設置する。チャンバー15にはガス導入口22を設け、チャンバー15内にはヒーター17を設け、ヒーター17に設置したルツボ18を加熱してルツボ18内に装荷した樹脂をターゲットガスに気化させる。ターゲットガスは、目的とする薄膜に必要な元素を含む化合物で、例えば、ダイヤモンド膜やDLCを形成する場合には、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、などの樹脂からなる群から選ばれる炭素源をターゲットガスとして用いる。ターゲットガス源が気体の場合には、高密度ターゲットガスをガス導入口22から導入する。他に製造方法の発明あり。
画像

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thum_2001-083161.GIF
研究分野
  • 表面処理
展開可能なシーズ レーザ・アブレーション法は、大面積に対応できにくいこと、粒塊が混入すること、基板面に対して生成した膜の均一性並びに密着性が悪いことなどの欠点があり、これは、固体のターゲットを用いていることに起因する。本発明は、高密度ガスをターゲットとするレーザ・アブレーションを利用した薄膜形成装置並びに薄膜形成方法を提供する。
ターゲットを固体とせずに、高密度ターゲットガスにレーザ光を照射すると、解離や励起が起こると同時に衝撃波駆動の高速粒子が基板に飛来し、アブレーション成膜を行うことが可能となり、これにより基板上に緻密で高純度の薄膜を経済的に形成することができ、また、従来なしえなかった大面積薄膜を高速に形成することが可能となる。
用途利用分野 レーザ・アブレーション薄膜形成装置、DLC(ダイヤモンド様炭素)薄膜形成装置、パルス発振DLC薄膜形成装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人東洋大学, . 吉田 善一, . 薄膜形成装置並びに薄膜形成方法. 特開2002-285326. 2002-10-03
  • C23C  14/28     
  • C23C  14/06     

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