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静電気力を用いたハンドリング対象物のハンドリング装置

シーズコード S022000083
掲載日 2003年5月26日
研究者
  • 樋口 俊郎
研究者所属機関
  • 東京大学 大学院工学系研究科精密機械工学専攻
研究機関
  • 東京大学 大学院工学系研究科精密機械工学専攻
技術名称 静電気力を用いたハンドリング対象物のハンドリング装置
技術概要 本技術は、静電気力を用いて薄板状の材料をハンドリングする装置に関するものであり、ガラス、プラスチックを含む絶縁性ないしは誘電性薄板状基板材料を非接触で安定にハンドリングする装置ないしは方法の提案である。多数の電極を有する平面状のジグと薄板状基板材との間の静電吸引力を、電極に印加する電圧のON/OFFで制御する。基板材が絶縁性の場合には残留電荷を逆電圧の印加で打ち消して安定なギャップ維持を可能とする。
画像

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従来技術、競合技術の概要 従来の静電浮上システムには、高抵抗体や誘電体材料を安定浮上することに問題があった。
研究分野
  • 静電機器
  • 荷役・運搬機械
  • 固体デバイス製造技術一般
展開可能なシーズ (1)電極配置、印加電圧、印加時間を制御することで、絶縁体の浮上を可能とした装置
(2)半径方向の動きも制御可能な静電浮上システム
用途利用分野 シリコンウエハー、液晶ガラス基板等への応用
磁気ディスク、光ディスク等の製造工程
関連発表論文 (1)POH F, 樋口俊郎. 静電気吸引力を用いた薄いガラス板の非接触ハンドリング装置. 電磁力関連のダイナミックスシンポジウム講演論文集. vol.11st,1999,p.240‐245.
(2)樋口俊郎. 最近のクリーン・非接触搬送技術静電気力によるシリコンウエハとガラスの非接触搬送. 精密工学会誌. vol.63,no.7,1997,p.943‐946.
(3)樋口俊郎. 300mmウェハ時代の半導体プロセス用周辺機器・材料静電気力によるウェハの非接触搬送. 電子材料. vol.36,no.8,1997,p.22‐25.
(4)堀秀爾, POH F L, 田苗俊和, 樋口俊郎. フロートチャックと静電拘束力を組み合わせたハイブリッド型チャックの開発. 電磁力関連のダイナミックスシンポジウム講演論文集. vol.12th,2000,p.267‐270.
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, . 樋口 俊郎, 傅 寶▲莱▼, . 静電気力を用いたハンドリング対象物のハンドリング装置. 特開2001-057789. 2001-02-27
  • H02N  13/00     
  • H01L  21/683    

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