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記録表示材料及びその製造方法

シーズコード S130011601
掲載日 2013年6月7日
研究者
  • 栗原 清二
  • 緒方 智成
  • 森次 正樹
技術名称 記録表示材料及びその製造方法
技術概要 光の照射と加熱処理で液晶材料の配向状態を可逆的に制御可能であり、同液晶材料の配向状態に基づいて屈折率が決定されると共に、スペーサ長が8であり、アゾベンゼン基を有する高分子液晶層と、該高分子液晶層と交互に積層されると共に、前記高分子液晶層中の液晶材料を所定の向きに配向せしめる配向材料層とを備える。また、目的を達成するために、記録表示材料の製造方法では、光の照射と加熱処理で液晶材料の配向状態を可逆的に制御可能であり、同液晶材料の配向状態に基づいて屈折率が決定されると共に、スペーサ長が8であり、アゾベンゼン基を有する高分子液晶層と、該高分子液晶層中の液晶材料を所定の向きに配向せしめる配向材料層とを交互に積層する工程を備える。ここで、高分子液晶層のスペーサ長が8であることによって、高温度域(例えば100℃程度)で加熱処理を行ったとしても液晶材料が配向性を示すことができる。
画像

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研究分野
  • 光の屈折,反射,分散,偏向,吸収,透過
展開可能なシーズ 熱的安定性が高い記録表示材料及びその製造方法を提供すること。
本発明を適用した記録表示材料及び本発明を適用した記録表示材料の製造方法で得られる記録表示材料では、高い熱的安定性を実現することができる。
用途利用分野 フォトニック結晶、記録表示材料
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人 熊本大学, . 栗原 清二, 緒方 智成, 森次 正樹, . 記録表示材料及びその製造方法. 特開2011-227181. 2011-11-10
  • G02F   1/13     
  • C09K  19/56     
  • C09K  19/38     

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