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フォトニック結晶の作製方法

シーズコード S022000183
掲載日 2003年5月26日
研究者
  • 長谷 正司
研究者所属機関
  • 独立行政法人 物質・材料研究機構
研究機関
  • 独立行政法人 物質・材料研究機構
技術名称 フォトニック結晶の作製方法
技術概要 フォトニック結晶とは、誘電率に空間的な周期性を持たせた光学材料である。この技術は短時間で容易にフォトニック結晶の大量生産を可能とする新しい結晶作製法である。この技術では、光の波長程度の間隔で明けられた複数の円筒状の孔(1)を持つ鋳型(2)を用いて液状高分子あるいは粒子を分散させた液状高分子(4)をキャスティングすることにより、フォトニック結晶(5)を作製する。
画像

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従来技術、競合技術の概要 フォトニック結晶は、光の波長程度の周期性を持つ微細な構造とすることは必要であることから従来はその作製は容易ではなかった。本技術ではフォトニック結晶を用いた微小光回路については、光ファイバーで構成する回路よりもずっと微小なものが作製できる。 数10ミクロン角の大きさの素子で光を自由に曲げられる可能性があるガス検知システムについては、大半の調べたいガス種に対応できるので応用範囲は広い。
研究分野
  • 光の屈折,反射,分散,偏向,吸収,透過
  • 高分子溶液の物理的性質
展開可能なシーズ (1)様々な2次元フォトニック結晶が短時間で簡単に作れる作製方法
(2)高性能なフォトニック結晶と微小光回路を作製するための指針
(3)フォトニック結晶を利用した新しいタイプのガス検知システム
用途利用分野 2次元のフォトニック結晶作製方法
高性能な微小光回路作製方法
新しいガス検知システム
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 独立行政法人物質・材料研究機構, . 長谷 正司, 江頭 満, 新谷 紀雄, . フォトニック結晶の作製方法. 特開2001-091777. 2001-04-06
  • G02B   6/13     
  • G02B   6/12     
  • G02F   1/355    
  • G02F   1/361    

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