TOP > 技術シーズ検索 > 半導体リソグラフィ用光源装置

半導体リソグラフィ用光源装置

シーズコード S130011979
掲載日 2013年6月10日
研究者
  • 大西 正視
  • ワヒード ヒューグラス
技術名称 半導体リソグラフィ用光源装置
技術概要 この半導体リソグラフィ用光源装置1は、内部空間が形成された空洞共振器10と、電気絶縁性を有する非磁性の材料で形成され、内部に希ガス又は希ガスが充填される空洞体20と、空洞共振器10の内部空間101に電磁波を供給するための電磁波供給手段3とを備え、空洞体20は、少なくとも一部から短波長の光成分又はこの光成分を含んだ光を放出可能に構成されるとともに、空洞共振器10の内部空間101に少なくとも一部が位置するように配置され、空洞共振器10は、空洞体20から放出される短波長の光成分又はこの光成分を含んだ光を外部へ放出可能な光放出部104が形成されている。
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

thum_2010-222493.gif
研究分野
  • 固体デバイス製造技術一般
展開可能なシーズ 半導体ウェハに対する回路パターンの転写を阻害するデブリを発生させることなく、半導体ウェハに高集積化した回路を形成するのに最適な短波長の光を発生させることのできる半導体リソグラフィ用光源装置を提供する。
デブリの発生要因となるターゲットや電極を用いていないため、回路パターンの形成を阻害するデブリを発生することがなく、半導体ウェハWに高集積化した回路を形成するのに最適な短波長の光を発生させることができる。
用途利用分野 半導体リソグラフィ用光源、半導体用露光装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人 関西大学, . 大西 正視, ワヒード ヒューグラス, . 半導体リソグラフィ用光源装置. 特開2012-079857. 2012-04-19
  • H01L  21/027    
  • G03F   7/20     

PAGE TOP