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複合膜の成膜装置及び成膜方法

シーズコード S130012310
掲載日 2013年6月10日
研究者
  • 野瀬 正照
  • 栗本 猛
  • 池野 進
  • 寺山 清志
  • 佐伯 淳
技術名称 複合膜の成膜装置及び成膜方法
技術概要 成膜装置は成膜室10を隔壁12で仕切ることで複数のチャンバーを形成し、且つ各チャンバーを横切るように可動する可動部11を有する。各チャンバーはそれぞれ減圧排気装置、ガス導入口13及び蒸気源となるターゲットの保持部を有する。各チャンバーにはそれぞれ独立して、ターゲットA,Bの保持部15A,15Bを有し、この保持部15A,15Bと被処理物30を保持した可動部の間には、プラズマを出現させるのに必要な高圧の電圧を印可するための電源16A,16Bをそれぞれ有する。可動部が各チャンバーを横切るように成膜室を複数のチャンバーに仕切ったことで可動部、隔壁及び成膜室内壁の組み合せ間に生じ得る隙間を、ガスが他のチャンバーに混入しないように、隣接チャンバー間に形成された隙間断面積Sを粘性流が生じない所定の大きさ以下にする。チャンバー内のガス圧をP[Pa]とし、隙間断面積Sを内径D[m]の円筒断面積に換算した場合にP×D<0.02[Pa・m]になるように隙間断面積Sを設定する。各チャンバー毎に相互に異なる蒸気源又は/及びガス種を導入する。
画像

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研究分野
  • 薄膜成長技術・装置
展開可能なシーズ ナノメートルサイズレベルのナノコンポジット膜および/またはナノ多層膜からなる複合化された膜を成膜する装置及びその成膜方法に関する。スパッタリング、イオンプレーティング、蒸着等のPVDや、CVDに適用でき、異なる金属間、金属と酸化物、金属と窒化物、酸化物と窒化物等、複合化する材料の組合せが自由に調整できるナノコンポジット膜および/またはナノ多層膜を成膜できる装置及び方法の提供する。
従来の膜では実現できなかった組み合せでナノコンポジット膜が製造可能であるため、たとえば1000℃を超える超耐熱性を有する耐酸化性硬質保護膜や700℃以下で動作する高性能固体電解質膜を実現できる可能性がある。磁性膜や半導体膜の分野でも研究対象となりうる材料の組み合せが拡大できるため、この成膜装置、成膜方法は波及効果が大きい。複数のチャンバー間に分子・イオンのコンタミネーションを生じさせない。
用途利用分野 成膜装置、耐酸化性硬質保護膜、高性能固体電解質膜、磁性膜、半導体膜、目的
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人富山大学, . 野瀬 正照, 栗本 猛, 池野 進, 寺山 清志, 佐伯 淳, . 複合膜の成膜装置及び成膜方法. 特開2012-031503. 2012-02-16
  • C23C  14/54     

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