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親水化した酸化物固体表面の高速疎水化方法

シーズコード S022000359
掲載日 2003年5月26日
研究者
  • 亀井 雅之
研究者所属機関
  • 独立行政法人 物質・材料研究機構
研究機関
  • 独立行政法人 物質・材料研究機構
技術名称 親水化した酸化物固体表面の高速疎水化方法
技術概要 この技術は、無機固体表面の任意位置における水の接触角の制御技術、つまり、ぬれ性制御技術である。この種酸化物表面制御の従来技術として、疎水性から親水性への処理法では「表面への紫外線照射」が、逆側処理では「暗中保存プロセス」があったが、この逆側には数週間を要していた。 本技術はこの逆側処理の高速化を実現したもので、方法としては、「親水化した酸化物固体表面(二酸化チタン:アナターゼ型やルチル型やその混合体)の所望領域に機械的刺激を印加」するものである。
画像

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従来技術、競合技術の概要 表面の疎水化に2週間程度の長い時間を要するため、高速応答を要求する分野に不適当、表面の任意位置を局所的に疎水化できない。
研究分野
  • 界面化学一般
  • 物理的手法を用いた吸着の研究
  • 固-液界面
展開可能なシーズ (1)酸化物固体表面における親水・疎水性のスイッチングを高速化(数週間→数分)する技術
(2)表面の任意の局所位置の親水・疎水性を高速制御できる技術
用途利用分野 印刷技術関連産業における画像形成技術
防曇技術・防汚技術に用いられる固体表面の親水性、疎水化処理技術
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人物質・材料研究機構, . 亀井 雅之, 三橋 武文, . 親水化した酸化物固体表面の高速疎水化方法. 特開2001-158606. 2001-06-12
  • C01B  13/14     
  • C01G  23/04     
  • C03C  19/00     
  • C04B  41/80     
  • C30B  29/16     

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