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超微粒子構造の作製方法

シーズコード S022000362
掲載日 2003年5月26日
研究者
  • 小宮山 宏
研究者所属機関
  • 東京大学 大学院工学系研究科
研究機関
  • 東京大学 大学院工学系研究科
技術名称 超微粒子構造の作製方法
技術概要 この技術は、基板1上に物質を堆積させて、極微細な粒子から成る超微粒子構造を作製する方法であり、基板1の表面に堆積させるべき物質4に対して、濡れ性の低い部分と高い部分3を形成し、堆積物質を濡れ性の高い部分に集積させて、極微細な粒子からなる超微粒子構造5を作製することを特徴とする超微粒子構造の作製方法である。
画像

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従来技術、競合技術の概要 従来の量子細線や量子ドット等の低次元量子構造の作製法はリソグラフィーとエッチングによる加工、ステップやヘテロ接合間に生じるひずみを利用した形成などがあるが、サイズがリソグラフィーで制限される、また再現性が劣る。
研究分野
  • 固-気界面一般
  • 固-液界面
  • 金属組織学
展開可能なシーズ (1)濡れ性の違いを利用し、超微粒子構造を作製する方法
(2)スパッタリングを用いて、超微粒子構造を作製する技術
(3)形成される超微粒子の大きさや形状は堆積量、基板温度等により制御できる技術
用途利用分野 均一な超微粒子構造の作製
半導体の微細加工技術における量子細線や量子ドットなどの作成方法
大規模集積回路のさらなる微細化の達成が可能
関連発表論文 (1)小宮山宏. 超微粒子の特性とその応用. 粉体と工業. vol.19,no.5,1987,p.22‐27.
(2)小宮山宏. 粉体技術会議ハイライト超微粒子の応用とその生成法の実際. 化学工学. vol.51,no.2,1987,p.114‐118.
(3)小宮山宏. CVDによるTiO2の設計超微粒子から厚膜まで. セラミックス. vol.21,no.4,1986,p.305‐311.
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人東京大学, . 小宮山 宏, 白川 宏昭, 大沢 利男, . 超微粒子構造の作製方法. 特開2000-133794. 2000-05-12
  • H01L  29/06     
  • H01L  21/20     
  • H01L  21/203    
  • H01L  21/205    

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