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粒子積層法を用いた光触媒酸化チタンの高速成膜技術 新技術説明会

シーズコード S080000114
掲載日 2008年9月19日
研究者
  • 山田 基宏
研究者所属機関
  • 国立大学法人豊橋技術科学大学 工学部 生産システム工学系
研究機関
  • 国立大学法人豊橋技術科学大学
技術名称 粒子積層法を用いた光触媒酸化チタンの高速成膜技術 新技術説明会
技術概要 原料粉末を非溶融で積層するコールドスプレー法により、原料粉末のアナターゼ型酸化チタンの特性を維持した高純度・高特性光触媒酸化チタン皮膜を大気中で高速に成膜する技術である。
画像

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従来技術、競合技術の概要 高速成膜技術には溶射法があるが、原料粉末の溶融を前提とするため、熱的相変態に伴う特性劣化が問題となる。ペンキと共に塗布する方法などは簡便であるが、低特性や溶剤の使用という問題がある。本技術はこれらの問題を解消するものである。
研究分野
  • 固体の製造・処理一般
  • 薄膜成長技術・装置
展開可能なシーズ ・光触媒活性の高いアナターゼ型酸化チタンのみからなる皮膜作製が可能
・大気中で大面積に高速成膜が可能
・プラズマや燃焼炎を用いないクリーンなプロセス
用途利用分野 構造物表面塗布による自動車排気ガス中の窒素酸化物除去
生体材料としてインプラントの表面処理
建造物等における防汚コーティング
試供品・サンプルの提供可能性 サンプル提供可能
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人豊橋技術科学大学, . 福本 昌宏, 山田 基宏, . 光触媒酸化チタン膜およびその製造方法. 特開2008-297184. 2008-12-11
  • C01G  23/07     
  • B01J  35/02     
  • B01J  37/02     
  • B01D  53/86     
  • C23C  14/00     
  • C23C  14/08     
  • C23C  24/08     

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