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新規メソポーラス炭素構造体の製造法

シーズコード S090000044
掲載日 2009年9月14日
研究者
  • 王 正明
  • 星野尾 恭美子
  • 大井 健太
技術名称 新規メソポーラス炭素構造体の製造法
技術概要 多孔質グラファイト複合材料を、不活性雰囲気中で高温で炭化処理し、次いで当該多孔質グラファイト複合材料中の金属酸化物又は半金属酸化物を溶出する処理してメソポーラス炭素構造体を製造する。より詳細には、グラファイトを酸化して酸化物層状体としたのち、この層間に、ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム及び鉄の中から選ばれた少なくとも1種の金属又は半金属の化合物のゾル或いは多核金属陽イオンをインターカレーションさせて製造された多孔質グラファイト複合材料を、不活性雰囲気中で高温で炭化処理し、次いで当該多孔質グラファイト複合材料中の金属酸化物又は半金属酸化物を溶出する処理をする。炭化処理の温度としては、500℃以上、好ましくは550℃以上、650℃以上、700℃以上、より好ましくは550~1000℃、700~1000℃である。高温処理は、不活性雰囲気中で行われる。溶出処理は、炭素以外の金属酸化物又は半金属酸化物を溶出し得る物質を用いて行うことができる。好ましい物質としてはフッ酸(HF)などの強酸が挙げられる。得られたメソポ-ラス炭素構造体のポアサイズは2nm以上である。
研究分野
  • 固体デバイス材料
  • 固体デバイス製造技術一般
  • 固体の製造・処理一般
展開可能なシーズ グラファイトを酸化して得たグラファイト酸化物の層間をソフト化学的な手法により処理し、より温和の条件下で高炭素収率のメソポーラス的な炭素構造体を合成する。
簡便で、温和な条件下で、かつ効率よくメソポーラス炭素構造体を提供することができる。特にグラファイトから炭素収率70%以上という高収率でメソポーラス炭素構造体を製造できる。また、この方法で製造されたメソポーラス炭素構造体は、比表面積が大きく、かつ比較的狭いポア分布で小さなメソポアを有するものであり、各種の分子の吸着剤や貯蔵材料として有用である。
用途利用分野 分子吸着剤、分子貯蔵材料
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 独立行政法人産業技術総合研究所, . 王 正明, 星野尾 恭美子, 大井 健太, . 新規メソポーラス炭素構造体の製造法. 特開2004-210583. 2004-07-29
  • C01B  31/02     
  • B01J  20/20     
  • B01J  20/28     

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