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フェニレンチオフェンポリマー及びその製造方法

シーズコード S090000293
掲載日 2009年9月14日
研究者
  • 高橋 保
  • 蔡 福裕
技術名称 フェニレンチオフェンポリマー及びその製造方法
技術概要 式1で示されるフェニレンチオフェンポリマーである。式1中、Yは、-CH-;-C(P)(P)-;-CHCH-;-O-;-Si(P)(P)-;-NP-;又は-S-であり、P~P及びR、Rは、それぞれ、互いに独立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有していてもよく、酸素原子もしくは硫黄原子で中断されていてもよい炭化水素基;置換基を有していてもよいアルコキシ基;置換基を有していてもよいアリールオキシ基;置換基を有していてもよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基;水酸基;ホルミル基;置換基を有していてもよいアルキルアリールオキシ基;置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基;又は置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基である。その製造法の内の1つは、式2のフェニレンチオフェンモノマーを遷移金属化合物及び還元剤の存在下でを重合させる。式中、X1及びX2は、それぞれ、同一または異なって、ハロゲン原子、水素原子、シリル基又はスタニル基を示す。]。
画像

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研究分野
  • 重合反応一般
  • 高分子材料一般
展開可能なシーズ チオフェン部分の数を調節することができるフェニレンチオフェンポリマー及びその製造方法を提供する。
バックライトなどのパネル型光源として発光波長を調節することができる、有機電界発光素子として有用な有機化合物を、高収率かつ簡便に得ることができる。
用途利用分野 有機電界発光素子
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, . 高橋 保, 蔡 福裕, . フェニレンチオフェンポリマー及びその製造方法. 特開2005-023168. 2005-01-27
  • C08G  61/12     
  • C07D 333/16     
  • C07D 333/24     

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