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立体選択的合成プロセスにおけるケイ素成分の回収方法

シーズコード S090000820
掲載日 2009年9月14日
研究者
  • 小林 修
  • 秋山 良
  • 磯田 武寿
技術名称 立体選択的合成プロセスにおけるケイ素成分の回収方法
技術概要 アルデヒドとケイ素エノラートのアルドール反応による立体選択的合成プロセスにおけるケイ素成分の回収方法であり、キラルリガンドの存在下、原料アルデヒドと原料ケイ素エノラート組成物(一般式:RSi-O-X)をアルドール反応させ立体選択的合成を行うステップ、この反応液を蒸留し、蒸留液として溶媒とともにケイ素成分を分離するステップ、および、 蒸留液を濃硫酸で処理し、生成ケイ素エーテル組成物〔一般式:(RSi)O〕を得ると同時に、精密蒸留によりケイ素成分を回収することから成り立つ。ここで、アルドール反応は、アルゴン雰囲気下で、ジルコニウムとキラルリガンドであるBINOL誘導体との活性錯体のモリキュラーシーブ固定化触媒を高沸点溶媒に溶解し、添加剤の水(30mol%程度)とアルコール(300mol%程度)を室温下で加え、さらに原料アルデヒド、次いでもう一方の原料ケイ素エノラート組成物を5℃下で加え、そのまま一日撹拌する。キラルリガンドとしては、好ましくは(R)-3,3’,6,6’-I-BINOLを用いる。触媒としては、好ましくはZr(OPr)を用いる。
研究分野
  • 各種有機化合物の製造
  • 有機化学反応一般
展開可能なシーズ アルデヒドとケイ素エノラートのアルドール反応により生成するケイ素成分を定量的に回収し、これをケイ素エノラートとして再利用する手法を提供する。
副生成物として廃棄されていたケイ素エノラート由来のケイ素成分を、単純な操作により低コストで高収率で回収可能となる。これにより、回収されたケイ素成分をケイ素源としてケイ素エノラートへの再生が可能となり、不斉合成を含む立体選択的合成プロセスにおけるコストの低減効果、および、廃棄物を削減による環境負荷の削減効果が期待される。
用途利用分野 ケイ素エノラート
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, . 小林 修, 秋山 良, 磯田 武寿, . 立体選択的合成プロセスにおけるケイ素成分の回収方法. 特開2006-206552. 2006-08-10
  • C07F   7/08     
  • C07F   7/20     
  • C07C 231/00     
  • C07C 233/47     
  • C07B  53/00     
  • C07B  61/00     

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