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高分子薄膜の製造方法

シーズコード S090000862
掲載日 2009年9月14日
研究者
  • 栗原 和枝
  • 水上 雅史
  • 鐘 国倫
技術名称 高分子薄膜の製造方法
技術概要 比較的溶解度の高い溶媒中でモノマーの分子マクロクラスターをシリコン、ガラスなどの基板上に形成させ、この溶液を除去して溶解度の低い溶媒のモノマー溶液に置換し、この溶液中で重合反応を行うことにより、得られる高分子薄膜の厚みを制御する。すなわち、固体基板に対して水素結合で組織化可能な重合性モノマーとその高溶解性の溶媒との溶液を固体基板に接触させ、固体基板の表面に重合性モノマーの分子マクロクラスターを形成し、次いで重合性モノマーの低溶解性の溶媒溶液を接触させて重合反応を行う。重合性モノマーとしては、たとえばアクリル酸あるいはそのエステル、アミド、ニトリル等の誘導体など、高溶解性の溶媒としては、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、DMF、DMSO等、低溶解性の溶媒としては、非極性溶媒あるいは低極性溶媒であるヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン等の炭化水素が例示される。固体表面については、水素結合による組織化を可能とするように、表面にOH基等を有するものが好適に用いられる。分子マクロクラスター形成のための操作温度は-10℃~30℃程度の室温もしくはその近傍であってよい。
研究分野
  • 重合反応一般
  • 高分子材料一般
  • 薄膜一般
展開可能なシーズ 分子マクロクラスター形成を介しての高分子薄膜の形成方法において、生成させる薄膜の膜厚の調節を容易とすることのできる改善された高分子薄膜の製造方法を提供する。
比較的溶解度の高い溶媒中から分子マクロクラスターを基板上に形成させた後、溶解度の低い溶媒にモノマーを溶かした溶液中で重合を行うことで、モノマー濃度、光照射時間の重合反応の条件の選択により膜厚を制御することが可能となり、所要の高分子薄膜が得られる。しかも、この膜厚の調節は極めて簡便、かつ容易に行われる。
用途利用分野 高分子薄膜
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, . 栗原 和枝, 水上 雅史, 鐘 国倫, . 高分子薄膜の製造方法. 特開2006-312698. 2006-11-16
  • C08F   2/00     
  • C08F   2/46     

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