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光学活性4級炭素含有化合物の製法

シーズコード S090000936
掲載日 2009年9月14日
研究者
  • 小林 修
  • 小川 知香子
技術名称 光学活性4級炭素含有化合物の製法
技術概要 水溶液中又は水と有機溶媒との混合溶媒中で式(化1)で表される配位子又はその対称体とルイス酸とを混合させて得られる触媒の存在下で、β-ケトエステル化合物と式(化3)で表される活性化された二重結合を有する化合物を反応させることから成る、式(化4)で表される光学活性4級炭素含有化合物の製法である。なお、式(化1)中、Rは、炭素数が3以上のアルキル基又はアリール基を表し、Rは、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基若しくはアルコキシ基を表し、Xは、-OH、又は-SHを表す。また、式(化3)中、R及びRは水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1~12の炭化水素基を表し、RとRは共同して環を形成していてもよく、Rはカルボニル基、ニトロ基、シアノ基又はスルホニル基を表す。ここで、Rがtert-ブチル基、Rが水素原子、Rがトリフルオロメチル基、Xが-OHであることが好ましい。
画像

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研究分野
  • 各種有機化合物の製造
  • 触媒操作
  • 付加反応,脱離反応
展開可能なシーズ 媒的不斉マイケル付加反応により光学活性4級炭素含有化合物の製造方法を提供する。
メチルエステルなど、合成が容易で且つ安定性の高い基質を用いても高収率かつ高立体選択的に光学活性な四級炭素化合物を合成することができる。
用途利用分野 光学活性4級炭素含有化合物
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, . 小林 修, 小川 知香子, . 光学活性4級炭素含有化合物の製法. 特開2007-238547. 2007-09-20
  • C07C  67/347    
  • C07C  69/757    
  • C07B  61/00     
  • C07B  53/00     

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