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リグノフェノールの製造方法

シーズコード S090000979
掲載日 2009年9月14日
研究者
  • 舩岡 正光
  • 青柳 充
技術名称 リグノフェノールの製造方法
技術概要 出発原料となるリグノフェノール1を親溶媒に溶解し、リグノフェノールの親溶媒溶液とする工程と、リグノフェノールの親溶媒溶液を貧溶媒中に混合してリグノフェノール沈殿物を生成する工程と、を備え、貧溶媒を変えることによりリグノフェノール沈殿物2の分子量を制御することができる。さらに、リグノフェノール沈殿物を回収した後の貧溶媒へリグノフェノールと金属化合物とからなる錯体様複合体を加え、残存するリグノフェノールを回収することができる。リグノフェノールの原料となるリグノセルロースは植物の主成分であり、針葉樹や広葉樹のような木本類、草本類の何れも使用可能である。出発原料となるリグノフェノールは、その原料となるリグノセルロースをフェノール類などによりフェノール置換体とし、このフェノール置換体を濃酸との界面反応でフェノール化する相分離系変換システムで抽出することができる。溶媒のうち、アセトン、エタノールやセロソルブなどは親溶媒として用いる。貧溶媒としては、使用や回収の工程を考慮すると、リグノフェノールに対する親和性も考慮し、シクロペンチルメチルエーテルが挙げられる。
画像

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研究分野
  • 各種有機化合物の製造
  • 有機化学反応一般
展開可能なシーズ リグノフェノール及びその誘導体を、その用途に応じた分子量に分画することができる、リグノフェノールの製造方法を提供する。
リグノフェノールの分子量に応じて貧溶媒を選択することで、所望の分子量のリグノフェノールを効率良く製造することができる。低分子リグノフェノールは、ウイルス抑制剤や抗アレルゲン剤などの医薬品用途、プラスチック用紫外線吸収剤、可塑剤等の添加剤用途、光化学電池用光増感剤などのエレクトロニクス用途への材料として用いることができる。
用途利用分野 リグノフェノールポリマー、抗アレルゲン剤、プラスチック用紫外線吸収剤、光増感剤
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, . 舩岡 正光, 青▲柳▼ 充, . リグノフェノールの製造方法. 特開2008-214231. 2008-09-18
  • C07G   1/00     
  • C08H   7/00     

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