TOP > 技術シーズ検索 > [11C]CH3Xの製造方法

[11C]CH3Xの製造方法

シーズコード S090001177
掲載日 2010年3月5日
研究者
  • 鈴木 和年
技術名称 [11C]CH3Xの製造方法
技術概要 水素ガスを含む窒素ガスにプロトンを照射することにより生成した11Cを照射容器内で直接に[11C]CHに変換し、ついでこれをハロゲンガスと反応管内で反応させて[11C]CHX(Xはハロゲン原子)を生成させる方法において、照射容器内を予めプロトンにより予備照射して、混入している非放射性炭素を除去した後に本照射すること、ならびに[11C]CHXおよびハロゲンガスを、反応管内を循環させないシングルパス法により、反応管内を通過させることを特徴とする[11C]CHXの製造方法である。[11C]CHを標識反応の出発物質として利用することにより、大気中及び試薬中に吸蔵されているCOによるその後の汚染が回避できる。また、[11C]COを捕集し、還元剤で[11C]CHに変換する必要がないため、合成経路が簡略化され、汚染のリスクが回避できる。11Cの時間減衰による損失も防止でき、高比放射能化に有利である。合成系統図の一例を図1に示す。
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

S090001177_01SUM.gif
研究分野
  • 各種有機化合物の製造
  • 光化学反応
展開可能なシーズ 高比放射能化が期待でき、しかも高収率を維持しうる[11C]CHX(Xはハロゲン原子)の製造方法を提供する。
高比放射能[11C]CHI等を比較的高収率で安定的に、しかも、同じセットでたとえば30回以上、繰り返し製造しうる製造方法を提供しうる。従って、極微量で強い生理活性を発現する超高生理活性物質の生体内挙動、脳内において極微量しか存在しない神経受容体の定量化等、従来未開拓の分野であった極低濃度領域の研究の発展に寄与することが期待される。
用途利用分野 11C]標識薬剤、超高感度有機化合物計測システム
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, . 鈴木 和年, . [11C]CH3Xの製造方法. 特開2005-053804. 2005-03-03
  • C07C  17/10     
  • C07C  19/07     
  • C07B  59/00     

PAGE TOP