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チタニアナノ微結晶分散薄膜パターンの製造方法 新技術説明会

シーズコード S090001547
掲載日 2010年3月19日
研究者
  • 辰巳砂 昌弘
  • 小暮 敏博
  • 南 努
  • 忠永 清治
  • 松田 厚範
技術名称 チタニアナノ微結晶分散薄膜パターンの製造方法 新技術説明会
技術概要 シリコンアルコキシド、加水分解性を有するチタニウム化合物およびβ-ジケトンを含む溶液から、β-ジケトンで修飾されたシリコンアルコキシドとチタニウム化合物の複合金属酸化物あるいは水酸化物を含む膜を形成し、この膜を所望のパターンでマスクして紫外線を照射し、紫外線照射部を硬化させた後、非照射部をエッチングし、次いで、水または温水と接触させて、紫外線照射部の表面にチタニア微結晶を析出させることで、チタニアナノ微結晶分散薄膜パターンを製造する。
画像

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展開可能なシーズ チタニアナノ微結晶分散薄膜が、基体の任意の部位に、サブミクロンオーダーの任意のパターンとして分散されているチタニアナノ微結晶分散薄膜パターンと、その製造方法およびその薄膜パターンを備えた物品を提供する。
チタニア微結晶分散薄膜パターンは、基体に任意の配列でチタニア微結晶分散薄膜が形成されており、このチタニア微結晶が析出された部分は光触媒活性が高く、超親水性、防曇性等の機能を備えている。またこのチタニア微結晶の析出パターンは、紫外線照射技術により、サブミクロンオーダーの任意の形状で制御することができる。
用途利用分野 チタニアナノ微結晶分散薄膜

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