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光パルス発生方法およびその装置

シーズコード S090002756
掲載日 2010年3月26日
研究者
  • 小西 毅
  • 一岡 芳樹
  • 岩本 匡平
  • 長坂 由起子
技術名称 光パルス発生方法およびその装置
技術概要 光学的特性の異なる初期状態とシフト状態を有し、特定の第1の波長の光の照射により初期状態からシフト状態へ遷移し、他の特定の第2の波長の光の照射によりシフト状態から初期状態へ遷移する再帰的なフォトクロミック過程を持つ材料の光デバイス11である。特定の第1の波長の連続光と特定の第2の波長の連続光を重畳させて照射し、光デバイス11に自己誘導的に連続的に生じる状態遷移の繰り返しに基づいて、光デバイス11から出力される透過光の強度を変化させ、光パルスを連続的に発生する。フォトクロミック材料の光デバイス11には、高速な光変調素子として有望な、バクテリアから抽出されるタンパク質バクテリオロドプシンのフィルムを用いた。バクテリオロドプシンは、波長577nmの光を吸収して全トランス型の基底状態から13-シスの中間体に変化し、さらにその状態で波長412nmの光を吸収すると元の基底状態に戻る。各々の状態で光吸収帯が異なる。バクテリオロドプシンフィルムの光デバイス11に連続光12,13を照射するために、それぞれ連続発振レーザ光源14,15が設けられる。
画像

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S090002756_01SUM.gif
研究分野
  • 光源
  • 光デバイス一般
展開可能なシーズ 再帰的なフォトクロミック過程を持つ光材料に連続光を用いて簡単な構造で高繰り返し速度の光パルス列を発生できる技術を提供する。
再帰的なフォトクロミック過程をもつ光デバイスに対して、自己誘導的に光の透過/吸収がスイッチングされる構成を採用したことにより、従来の方法のような複雑な技術を利用することなく、高繰り返し光パルス列を簡単に発生することができる。また面型デバイスの形状をとり、電気的なインタフェースも不要であるため、集積構造に適し、容易に二次元の光パルス発生源を作成することができる。
用途利用分野 光パルス発生装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, . 小西 毅, 一岡 芳樹, 岩本 匡平, 長坂 由起子, . 光パルス発生方法およびその装置. 特開2002-116420. 2002-04-19
  • G02F   1/061    
  • G02F   1/17     

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