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プラズマ表面処理方法及び装置

シーズコード S090002788
掲載日 2010年3月26日
研究者
  • 池畑  隆
技術名称 プラズマ表面処理方法及び装置
技術概要 このプラズマ表面処理装置では、接地電位に保たれた被処理物の周囲に正電位にバイアスされたプラズマを発生させ、電界によって加速して被処理物の表面に堆積、あるいはイオン注入させることによって表面を改質するように構成する。すなわち、接地された真空容器11の内部に、プラズマ発生用電源16、プラズマ発生用アンテナ又は電極15によってプラズマ12を発生させる。接地電位にある導電性の支持体又は運動・移動機構19に支持された被処理物10がこのプラズマ12の中に浸される。真空容器11内に正パルスバイアスを印加するための電極(陽極)20を真空フィードスルー17を介して挿入する。更に、陽極20はパルス発生器18に接続される。パルス発生器18から被処理物10に対して正のパルス電圧を印加すると、プラズマ12と被処理物10の間にイオンシース13が形成され、被処理物10の表面全体をほぼ一様に覆い、プラズマ内の正イオン14はシース内の電界で加速され、被処理物10の表面に達する。
画像

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研究分野
  • 表面処理
  • ビーム-プラズマ相互作用
  • プラズマ装置
展開可能なシーズ 従来のプラズマイオン注入法では、イオンの衝撃によって、被処理物表面から2次電子が発生し、真空容器の壁を衝撃して強いX線と熱を発生するという課題がある。これに対し、従来法と同等の表面処理効果を有し、被処理物から放出される2次電子による強いX線の発生の軽減と電力効率の良いプラズマ表面処理法及び装置を提供する。
2次電子発生を減少させる効果があるため、有害なX線の発生量を低く抑えることができ、電力効率を改善できる。また、被処理物が容器と同じ接地電位にあるので、支持機構を大いに簡素化でき、装置の設計・製作・維持が容易になる。被処理物を運動又は移送する機構を導入することによって、連続一貫プラズマ表面処理プロセスを構成することが容易になる。
用途利用分野 プラズマ表面処理装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 独立行政法人科学技術振興機構, . 池畑 隆, . プラズマ表面処理方法及び装置. 特開2004-031461. 2004-01-29
  • H01L  21/265    
  • C23C  14/48     

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