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遺伝子発現プロファイルの作製方法

シーズコード S090004063
掲載日 2010年3月30日
研究者
  • 安倍 真澄
技術名称 遺伝子発現プロファイルの作製方法
技術概要 HiCEP法のPCR反応工程において、PCR反応に用いるプライマーの鋳型へのアニーリング温度を特別の範囲に設定する。具体的には、プライマーのTm値に基づき、ニーリング温度をプライマーのTmMAX+6℃~TmMAX+14℃と規定する。プライマーのTm値が高くなるとアニーリング温度も高くなる。したがって、アニーリング温度が、耐熱性ポリメラーゼがPCR反応の全反応時間にわたって充分に機能しうる温度をこえることのないよう、プライマーのTm値は使用する耐熱性ポリメラーゼがPCR反応の全反応時間にわたって充分に機能する上限温度より6℃以上低いことが好ましい。
画像

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研究分野
  • 分子遺伝学一般
  • クロマトグラフィー,電気泳動分析一般
展開可能なシーズ 広範囲の遺伝子をカバーする遺伝子発現プロフィールを簡便に作製することができるHiCEP法について、発現遺伝子の検出感度の更なる向上を図る。
遺伝子発現プロファイル作製過程におけるプライマーのミスアニーリングに起因する偽ピークの発生を減少させることができるので、発現遺伝子の検出感度が向上し、精度の高い遺伝子発現プロフィールを得ることができる。作製した遺伝子発現プロファイル上に現れるピークの大きさは、被検細胞で発現した遺伝子の発現量を反映しているので、ピークの大きさの変化を観察することにより、遺伝子の発現頻度を解析することができる。
用途利用分野 遺伝子発現プロファイル解析キット
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, . 安倍 真澄, . 遺伝子発現プロファイルの作製方法. 特開2005-006554. 2005-01-13
  • C12N  15/09     
  • C12Q   1/68     
  • G01N  33/50     
  • C12M   1/00     

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