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ポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物

シーズコード S090004224
掲載日 2010年3月30日
研究者
  • 土田 英俊
  • 山元 公寿
  • 宮武 健治
  • 遠藤 和久
技術名称 ポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物
技術概要 化2に示した一般式のポリ(アリーレンスルホニウム塩)は,Rf基としてフルオロメチル基、クロロフルオロメチル基、1,1,2,2-テトラフルオロプロピル基、パーフルオロプロピル基などのフルオロアルキル基を側鎖に有する。典型的なポリ(アリーレンスルホニウム塩)を合成する方法を示すと,大気下、トリフルオロメタン硫酸中で4-トリフルオロメチルスルフィニルビフェニルと無水トリフルオロメタン硫酸を混合し、室温下一晩撹拌する。反応溶液をエーテル中に滴下すると、白色の沈澱が得られた。ポリ(トリフルオロメチルスルホニオ-1,4-フェニレン-1,4-フェニレン トリフルオロメタン硫酸塩)(収率100%)を得た。この化合物は高反応性のフッ素導入試薬であり、光照射により高分解効率でプロトンを発生する。また、含フッ素有機残基の脱離により、高分子量ポリ(チオフェニレン)を生成する。
画像

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研究分野
  • 重縮合
  • 高分子材料一般
  • 分析試薬
展開可能なシーズ 従来の低分子フッ化アルキル化合物に比べて、フッ素化効率に優れ、かつ生成フッ化物の単離が容易であり、また光照射によって高い分解効率でプロトンを発生し、高分子量芳香族ポリチオエーテルの前駆体ともなり得る新しいポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物を提供する。
本ポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物は、高反応性のフッ素導入試薬であり、さらに光照射により高分解効率でプロトンを発生することができる。また、含フッ素有機残基の脱離により、高分子量ポリ(チオフェニレン)を生成する。
用途利用分野 ポリアリーレンスルホニウム塩
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, . 土田 英俊, 山元 公寿, 宮武 健治, 遠藤 和久, . ポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物. 特開平10-182824. 1998-07-07
  • C08G  75/00     
  • C07C 381/12     

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