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ポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物の製造法

シーズコード S090004225
掲載日 2010年3月30日
研究者
  • 土田 英俊
  • 山元 公寿
  • 宮武 健治
  • 西村 幸生
技術名称 ポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物の製造法
技術概要 式で示すような,ポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物の製造法を示す。その方法は,アリールスルホキシド化合物を酸とアミン化合物の存在下に重合させることを特徴とするポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物の製造法である。メチルフェニルスルホキシドおよびその誘導体を強酸中アミン存在下で反応させると、スルホニウム活性種とアミンの電荷移動錯体が形成することにより縮重合反応が生起し、スルホニル化率100%の高分子量ポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物が得られる。反応は常温常圧下という温和な条件下で進行し、高収率で希望するポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物を得ることができる。重合反応に使用されるジフェニルアミン化合物の具体例としては、ジフェニルアミン、2-フルオロジフェニルアミン、3-フルオロジフェニルアミン、4-フルオロジフェニルアミン、2-クロロジフェニルアミン、3-クロロジフェニルアミンなどが用いられる。
画像

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研究分野
  • 重縮合
  • 高分子材料一般
  • 分析試薬
展開可能なシーズ メチルフェニルスルホキシドおよびその誘導体を出発モノマーとする温和な重合条件下で、ベンゼン環とスルホニル基が交互に連結した,化学式で示した構造のポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物の新しい製造方法を提供する。
ベンゼン環とスルホニル基が交互に連結した分子分極率の大きな構造で、非線形光学効果、高屈折率、および光照射により高分解効率でプロトンを発生する、など優れた光学特性を示すポリアリーレンスルホニウム塩化合物を高い収率(選択率)で得ることができる。
用途利用分野 ポリアリーレンスルホニウム塩
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人科学技術振興機構, . 土田 英俊, 山元 公寿, 宮武 健治, 西村 幸生, . ポリ(アリーレンスルホニウム塩)化合物の製造法. 特開平10-182825. 1998-07-07
  • C08G  75/00     
  • C07C 381/12     

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