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ピコ秒レーザーによるホログラムの製造方法

シーズコード S090004353
掲載日 2010年3月30日
研究者
  • 細野 秀雄
  • 平野 正浩
  • 河村 賢一
  • 三浦 泰祐
  • 上岡 隼人
技術名称 ピコ秒レーザーによるホログラムの製造方法
技術概要 レーザーパワーが10μJ/パルス以上で、可干渉性をもつレーザー光を発する固体レーザーを光源とし、レーザーからのパルス光を二つに分割し、2つのビームを時間的および空間的に制御し、ホログラムを記録する基材表面または基材内部に集光し、二つのビームの集光スポットを時間的、空間的に合致させることにより干渉させ、1発のパルス光で基材表面に表面レリーフ型ホログラムまたは基材内部に埋め込み型ホログラムを不可逆的に記録する方法である。フェムト秒レーザーパルス光の位相補償を緩和させ、パルス幅τを900フェムト秒<τ≦100ピコ秒に拡大したパルス光を用いる。フェムト秒およびピコ秒レーザー光源から照射されたレーザービームは、平面鏡M1により反射され、ビームスプリッターとして用いるハーフ鏡HF1で、ビームB1とビームB2に分けられる。ビームB1は、平面鏡M2と凹面鏡M3で反射され、基材S1の表面または内部に集光する。ビームB2は、平面鏡M4、平面鏡M5で反射され、さらに凹面鏡M6で反射され、基材S1の表面または内部に集光される。
画像

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S090004353_01SUM.gif
研究分野
  • ホログラフィーの応用
  • 光デバイス一般
  • 固体レーザ
展開可能なシーズ レーザーパルス幅τを900フェムト秒<τ≦100ピコ秒にまで拡大する事により、埋め込み型ホログラムを、基材内部の任意の深さに記録する、さらにそれらのホログラムを多重に記録する方法を提供する。
基材内部伝播により生じる波形のゆがみを低減するために、Efを閾値以上に設定し、パルス幅τを10ピコ秒程度に拡大し、ピーク値を低減させることにより、基材表面から10μm以上の深さに亘って、埋め込み型ホログラムを作成する事ができる。
用途利用分野 ホログラム記録装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 独立行政法人科学技術振興機構, . 細野 秀雄, 平野 正浩, 河村 賢一, 三浦 泰祐, 上岡 隼人, . ピコ秒レーザーによるホログラムの製造方法. 特開2003-241626. 2003-08-29
  • G03H   1/04     
  • G02B   5/18     
  • G02B   5/32     
  • G03H   1/26     

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