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電子照射による濡れ性の制御方法 新技術説明会

シーズコード S990003162
掲載日 2000年12月28日
研究者
  • 三浦 浩治
研究者所属機関
  • 愛知教育大学
研究機関
  • 愛知教育大学
技術名称 電子照射による濡れ性の制御方法 新技術説明会
技術概要 本技術は、材料の表面に電子を照射して、材料表面の表面結晶格子状態を保ちながら水に対する濡れ性を制御するものである。この方法は材料としては、アルカリハライドに適用することができる。NaF(001)表面に30eVのエネルギーを持つ電子を4nm×4nm当たり数個照射したところ、表面の濡れ性が変化することが観察された。試料を走査型フォース顕微鏡で観察すると、電子照射しない表面は水膜ができるのに対し、電子照射した表面は液滴となる。この条件で電子照射したNaF表面の結晶格子構造は、ほとんど変化しないことが確認されている。
従来技術、競合技術の概要 材料内部の力学的性質を維持しながら、表面特性のみを変える方法として種々のコーティング技術がある。
研究分野
  • 固-液界面
  • 固体の表面構造一般
展開可能なシーズ 電子照射による濡れ性の制御方法
用途利用分野 防曇ガラス
微細構造のケミカルエッチング
関連発表論文 (1)三浦浩治, 前田啓介, 山田哲生. アルカリハライド結晶表面での水の吸着. 表面科学. vol.18,no.1,1997,p.44‐47.
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人愛知教育大学, . 三浦 浩治, . 電子照射による濡れ性の制御方法. 特開平11-090217. 1999-04-06
  • B01J  19/12     
  • C03C  23/00     

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