TOP > 技術シーズ検索 > 光学活性ビスホスフィノメタン並びにそれらのロジウム又は銅錯体を用いる不斉合成

光学活性ビスホスフィノメタン並びにそれらのロジウム又は銅錯体を用いる不斉合成

シーズコード S990003207
掲載日 2000年12月28日
研究者
  • 今本 恒雄
  • 山野井 慶徳
研究者所属機関
  • 千葉大学 大学院自然科学研究科
  • 千葉大学 大学院自然科学研究科
研究機関
  • 千葉大学 大学院自然科学研究科
技術名称 光学活性ビスホスフィノメタン並びにそれらのロジウム又は銅錯体を用いる不斉合成
技術概要 本技術は、光学活性ジホスフィン配位子の合成と、この配位子を用いた不斉合成に関するものである。この配位子は三塩化リンから3工程で合成できるビスホスフィノメタンであり、これまで知られている光学活性ジホスフィン配位子の中で最も小さい分子である。この配位子は、同一リン原子上にメチル基とt?ブチル基のような嵩高いアルキル基を有しており、金属キレートを形成すると堅固な4員環となるため、高い不斉誘導を起こし得る不斉空間を構築する。ビスホスフィノメタンのロジウム錯体は、不飽和カルボン酸またはエステルの不斉水素化反応、ケトンの不斉ヒドロシリル化反応において高い立体選択性を示す。また、銅錯体は不斉マイケル反応において高い立体選択性を示す。
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

S990003207_01SUM.gif
従来技術、競合技術の概要 これまでに不斉合成の触媒としてより高い性能を供給するために、膨大な数の光学活性ジホスフィン配位子が開発されてきた。しかしながら、これらの配位子は分子量が比較的大きく、また対象とする基質によっては選択制、触媒活性等の面で十分に満足できなかった。
研究分野
  • 有機りん化合物
展開可能なシーズ 光学活性ビスホスフィノメタンを用いる不斉合成
用途利用分野 分子不斉を有する医薬品、農薬、機能性材料の合成
関連発表論文 (1)今本恒雄. 新しい光学活性ホスフィン配位子の合成と不斉触媒反応への利用. 有機合成化学協会誌. vol.56,no.6,1998,p.511‐520.
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人千葉大学, . 今本 恒雄, 山野井 慶徳, . 光学活性ビスホスフィノメタン並びにそれらのロジウム又は銅錯体を用いる不斉合成. 特開2000-136193. 2000-05-16
  • C07F   9/50     
  • C07B  53/00     
  • C07C  29/159    
  • C07C  33/18     
  • C07C  45/69     
  • C07C  49/413    
  • C07C 231/18     
  • C07C 233/47     
  • C07F   1/08     
  • C07F  15/00     
  • C07F  19/00     
  • C07B  61/00     

PAGE TOP