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微細素子の形成方法及びその装置

シーズコード S100001269
掲載日 2010年9月17日
研究者
  • 縄手 雅彦
技術名称 微細素子の形成方法及びその装置
技術概要 真空チャンバ9内にシリコン等からなる基板1に対向させてピンホール3を有するマスク2を配置し、その下方にシャッタ4を介して蒸発源8を設置する。かかる構成において、最初に、真空チャンバ9内をポンプにより1×10-6Torr以下にまで排気する。次いで、基板1を所望の温度に加熱すると共に蒸発源8を加熱して、蒸着物質の蒸気を発生させる。真空チャンバ9内に設けられた膜厚モニタにより、蒸発源8からの蒸発率が一定になったのを確認した後、シャッタ4を開き、マスク2のピンホール3を介して、基板1上に蒸発源8からの蒸着物質を堆積して微細素子を形成する。一定時間が経過した後、シャッタ4を閉めることによって基板1上への堆積を終了する。なお、微細な素子を形成するという観点から、マスク2を基板1に接触させて蒸着物質の堆積を行うことが好ましい。
画像

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研究分野
  • 固体デバイス製造技術一般
  • 固体デバイス材料
  • 電子顕微鏡,イオン顕微鏡
展開可能なシーズ 廉価かつ簡易に、基板上に直接微細素子を形成することができる装置を提供する。
ピンホールマスクを基板に対向させて配置すると共に、ピンホールマスクを介して基板上に素子を構成する物質を堆積させることにより、基板上に直接微細素子を形成することができる。
用途利用分野 磁性金属微細素子形成装置
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人島根大学, . 縄手 雅彦, . 微細素子の形成方法及びその装置. 特開2000-058453. 2000-02-25
  • H01L  21/203    
  • C23C  14/04     
  • C23C  14/14     

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