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中空構造を有するセラミックス多孔体の低温製造方法

シーズコード S100001311
掲載日 2010年9月17日
研究者
  • 高井 治
  • 杉村 博之
  • 穂積 篤
技術名称 中空構造を有するセラミックス多孔体の低温製造方法
技術概要 界面活性剤の分子集合体、界面活性剤分子と所定の有機分子を共存させた集合体及び異種の界面活性剤の分子集合体から選択した集合体を鋳型として用い、これらの集合体とセラミック材料あるいはセラミック材料の前駆体とを混合して無機-有機構造を有するセラミックス多孔体の前駆体を形成し、セラミック多孔体の前駆体中の界面活性剤を200℃以下の雰囲気下で真空紫外光による光酸化により除去することで、ナノメートルスケールの細孔構造を有するセラミックス多孔体を低温で形成する。無機-有機構造を有するセラミックス多孔体の前駆体は、薄膜形状又は微粒状形状に形成する。界面活性剤は、アルキルトリメチルアンモニウム等である。セラミック材料は、シリカ骨格、チタニア骨格、アルミナ骨格等の無機骨格である。
画像

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研究分野
  • セラミック・陶磁器の製造
展開可能なシーズ 真空紫外光照射による光酸化により、二酸化炭素や水などの形で鋳型となる界面活性剤を除去し、無機骨格からなるナノメートルスケールの細孔構造を有するセラミックス多孔体の低温製造方法を提供する。
熱エネルギーを必要としない省エネルギープロセスが提供でき、材料内部に収縮による応力が発生しないため、得られた細孔構造を有するセラミックス多孔体にはクラックや剥離などの不具合が生じない。さらに、プラスチックなどの耐熱性に劣る基材材料表面に細孔構造を有するセラミックス多孔体を形成することもできる等の効果が奏される。
用途利用分野 吸着・触媒材料、分離・精製材料
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 学校法人名古屋大学, . 高井 治, 杉村 博之, 穂積 篤, . 中空構造を有するセラミックス多孔体の低温製造方法. 特開2001-080976. 2001-03-27
  • C04B  38/06     
  • B01J  13/02     

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