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表面皮膜の剥離・密着性測定方法

シーズコード S100001431
掲載日 2010年9月17日
研究者
  • 村松 由樹
  • 黒田 聖治
技術名称 表面皮膜の剥離・密着性測定方法
技術概要 基板表面に密着被覆した表面皮膜の剥離の発生と密着性とを非接触で測定するに際して、基板に対して所定の外力や熱を与えて基板に既知のひずみを生じさせ、同時に皮膜表面にレーザー光を照射してスペックル相関法により皮膜表面のひずみを測定し、皮膜表面のひずみが基板のひずみに追従しなくなる時点により皮膜の剥離の発生を検出し、この剥離発生の基板の限界ひずみ量をもって皮膜の密着性を評価する。ここで、物体表面の測定点にレーザービームを照射すると、乱反射したビームの相互干渉により観察面上に不規則な斑紋(レーザースペックルと呼ばれる)が生じ、その移動・変化より物体表面のひずみを非接触で測定できることになる。この場合、基板には外力や熱膨張によって既知のひずみを生じさせ、皮膜表面のひずみをレーザースペックルひずみ測定法によって測定する。そして、外部からひずみ量を増加させ、皮膜表面のひずみが、基板のひずみ量に追従しなくなった時点をもって皮膜の剥離が生じた時点と判定する。また、皮膜に剥離を生じさせる基板の限界ひずみ量によって、皮膜の密着性を定量的に評価する。
画像

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研究分野
  • 薄膜一般
展開可能なシーズ 通常の接触式、あるいは非接触式の方法の問題点を解消し、非接触式で、しかも的確に皮膜の剥離の発生を検出し、ひずみ量の測定による密着性の評価も可能な、新しい表面皮膜の剥離・密着性測定方法を提供する。
非接触式の測定として可能であって、的確な皮膜の剥離と密着性とが測定でき、基板に与えるひずみが未知の場合でも測定でき、任意の場所のひずみ(剥離、密着性)も測定でき、測定の位置に特別な処置を不要にし、剥離範囲の特定も可能とし、既に存在する剥離の検出も可能(健全な皮膜・基板との比較による)にする。
用途利用分野 構造材料、表面改質、溶射皮膜、密着性評価法、非接触
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人物質・材料研究機構, . 村松 由樹, 黒田 聖治, . 表面皮膜の剥離・密着性測定方法. 特開平11-142319. 1999-05-28
  • G01N  19/04     
  • G01N   3/00     

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