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X線撮像分析方法および装置

シーズコード S100001434
掲載日 2010年9月17日
研究者
  • 桜井 健次
  • 江場 宏美
技術名称 X線撮像分析方法および装置
技術概要 物質の元素から放出される蛍光X線を検出器8により撮像し、元素の位置的な分布を得るX線撮像分析方法であって、蛍光X線の角度発散を、物質3と検出器8との間においた角度発散制限手段を用いて制限し、且つ検出器8および角度発散制限手段を物質にできる限り近接させる。ここで、シンクロトロン放射光源からの単色放射光X線が、スリット5および2結晶モノクロメータ6を通ったのち、所定幅のスリット7により水平方向の光路幅が制限され、入射強度検出器8を通って、臨界角以下の微小角で試料3に入射され、試料3の表面において全反射されるようになっており、試料3の表面近傍から発生する蛍光X線は、試料3に近接配置されたコリメータ板1により角度発散が制限されて(つまり平行化されて)、CCDカメラ2により撮像される。このとき、コリメータ板1は、所定のガラス管が集合されて成るものであるため、蛍光X線の角度発散制限が行なわれることになる。このようにして、試料3の表面近傍の異種金属を区別してイメージングを行なうことができる。
画像

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研究分野
  • 物理分析
  • 放射線検出・検出器
  • 図形・画像処理一般
展開可能なシーズ 物質の表面や薄膜に存在するさまざまな元素の位置的な分布を高精度、且つ短時間で撮像し、分析することのできる、新しいX線撮像分析方法および装置を提供する。
物質の表面や薄膜の表面・界面に存在するさまざまな元素の位置的な分布を高精度、且つ短時間で撮像して、分析することのできる、新しいX線撮像分析方法および装置が提供され、このX線撮像分析方法および装置によって、分析技術の著しい高度化が達成され、その結果、製造プロセスの改善を促進し、さまざまな産業において高品位の工業製品の生産の実現が図れる。
用途利用分野 物質表面、薄膜界面、元素、位置的分布
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 独立行政法人物質・材料研究機構, . 桜井 健次, 江場 宏美, . X線撮像分析方法および装置. 特開2000-055842. 2000-02-25
  • G01N  23/223    
  • G01T   7/00     

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