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フォトニック結晶の作製方法

シーズコード S100001437
掲載日 2010年9月17日
研究者
  • 長谷 正司
  • 江頭 満
  • 新谷 紀雄
技術名称 フォトニック結晶の作製方法
技術概要 光の波長程度の微細な間隔で並んだ円筒状の孔を持つ鋳型を用いて、キャスティングによりフォトニック結晶を作製するものである。即ち、この場合、光の波長程度の微細な間隔で並んでいる円筒状の孔1を持つ鋳型2を容器3中に配置し、液状高分子あるいは粒子を分散させた液状高分子4を流し込んで成型する。ただし、円筒状の孔1は、鋳型2を貫通していない。液状高分子あるいは粒子を分散させた液状高分子4の硬化後、鋳型2と容器3とを取り去ることで、フォトニック結晶5が作製される。同様に、光の波長程度の微細な間隔で並んだ、円筒状の孔6を持つ鋳型7を容器8中に配置し、液状高分子あるいは粒子を分散させた液状高分子9を流し込んで成型してもよい。ただし、円筒状の孔6は、鋳型7を貫通している。さらに、液状高分子あるいは粒子を分散させた液状高分子9の硬化後、鋳型7と容器8を取り去ることでも、フォトニック結晶5が作製される。なお、この場合の鋳型7は、例えば、金属板にレーザー光を照射し円筒状の孔を掘ることにより作製される。
画像

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研究分野
  • 光デバイス一般
展開可能なシーズ 短時間で容易にフォトニック結晶の大量生産が可能となる新しいフォトニック結晶作製方法を提供する。
キャスティングによるフォトニック結晶の作製に成功する。また、短時間で容易にフォトニック結晶の大量生産が可能となる。さらに、精度の高い定量測定が可能となるガス検知システムが実現される。
用途利用分野 大量生産
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 独立行政法人物質・材料研究機構, . 長谷 正司, 江頭 満, 新谷 紀雄, . フォトニック結晶の作製方法. 特開2001-091777. 2001-04-06
  • G02B   6/13     
  • G02B   6/12     
  • G02F   1/355    
  • G02F   1/361    

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