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電子照射による濡れ性の制御方法 新技術説明会

シーズコード S100001616
掲載日 2010年10月4日
研究者
  • 三浦 浩治
技術名称 電子照射による濡れ性の制御方法 新技術説明会
技術概要 材料の表面に電子を照射して、材料表面の表面結晶格子状態を保ちながら水に対する濡れ性を制御することを特徴とする電子照射による濡れ性の制御方法である。この制御方法は、例えば材料としてアルカリハライド、具体的にはNaFに適用することができ、また、電子の照射量が、1nm平方当たり1~2個、照射エネルギーが30eV以下であることは、より好ましい。材料表面のミクロな視点における水の吸着状況が、マクロな状況と直接関連性を有する。ミクロレベルでの吸着状況は、材料表面に低照射量、低エネルギーの電子を照射することによって変化させることができる、ひいてはこの電子照射により、材料の濡れ性を制御することができる。適用できる材料は、NaF、LiF、NaClといったアルカリハライドばかりでなく、ガラス材料として重要なSiNxやSiOxそれで金属酸化物のように、電子照射により表面の相互作用が変化できるものであれば材料を問わない。濡れにくいガラスの表面改質の開発や、傷のつきにくい材料開発につながる摩擦特性の改変に役立つ。水同様の相互強さを有する水溶液に対する濡れ性の制御にも、この方法を適用できる。
研究分野
  • プリント回路
  • 表面処理
展開可能なシーズ 材料表面の濡れ性を制御することのできる方法を提供する。
材料の表面に電子を照射して、材料表面の表面結晶格子状態を保ちながら水に対する濡れ性を制御という方法により濡れ性を制御することができるので、材料の表面特性として求められる他の特性を全て満足させ得る表面コーティングの開発などが可能となる。
用途利用分野 防曇ガラス、微細構造ケミカルエッチング
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立大学法人愛知教育大学, . 三浦 浩治, . 電子照射による濡れ性の制御方法. 特開平11-090217. 1999-04-06
  • B01J  19/12     
  • C03C  23/00     

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