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チタニア超薄膜およびその製造方法

シーズコード S100001651
掲載日 2010年10月4日
研究者
  • 佐々木 高義
  • 海老名 保男
  • 渡辺 遵
技術名称 チタニア超薄膜およびその製造方法
技術概要 基板表面上に、層状チタン酸化物微結晶を剥離して得られる1nm以下の分子レベルの薄さにまで微細化される薄片粒子とポリマーとを自己組織化的に交互にモノレヤーで吸着させて積層した、波長265nmに紫外光の吸収の極大ピークをもつ波長300nm以下の紫外光吸収用多層チタニア超薄膜である。膜厚は、サブnm~nmレンジで制御可能な超薄膜である。薄片粒子は、組成式Ti-δO(0≦δ≦0.5)で示されるチタニアナノシートからなるの超薄膜である。紫外線遮蔽コーテイング、光電変換用薄膜、フォトクロミック材料、光触媒薄膜およびセンサーのいずれかとして用いられる超薄膜である。さらに、濃度が5wt%以下でpHが5以上の薄片粒子が懸濁したゾル溶液とカチオン性ポリマー溶液に基板を交互に浸漬する操作を反復することにより、基板上に薄片粒子とポリマーをそれぞれサブnm~nmレベルの厚さに吸着させ、この成分が交互に繰り返す多層膜を累積する。
画像

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研究分野
  • 薄膜成長技術・装置
  • 金属薄膜
展開可能なシーズ 従来の薄膜とは微細組織、膜厚などの制御性、光吸収性などの物性が大きく異なる新規な超薄膜を開発する。
チタニアナノシートと有機ポリカチオンをそれぞれ液相から自己組織化的にモノレヤーで吸着させ、これを繰り返すことによって製膜を行うため、サブnm~nmレンジの極めて微細な膜厚の制御が可能であること、膜の組成、構造を選択、制御できる自由度を高くすることができる。
用途利用分野 ポリマー、モノレヤー
出願特許   特許 国際特許分類(IPC)
( 1 ) 国立研究開発法人物質・材料研究機構, . 佐々木 高義, 海老名 保男, 渡辺 遵, . チタニア超薄膜およびその製造方法. 特開2001-270022. 2001-10-02
  • B32B   9/00     
  • B01J  21/06     
  • B01J  35/02     
  • C01G  23/00     
  • C01G  23/04     
  • C03C  17/42     

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