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可変抵抗デバイスおよびその製造方法 (未公開特許出願) NEW

外国特許コード F200010218
整理番号 18T185P
掲載日 2020年9月15日
出願国 世界知的所有権機関(WIPO)
国際出願番号 2020JP019937
国際出願日 令和2年5月20日(2020.5.20)
発明の名称 (英語) 可変抵抗デバイスおよびその製造方法 (未公開特許出願) NEW
発明の概要(英語) 有機膜と有機膜の両面を挟んで少なくとも一部が対向する第1電極、第2電極とを備えることにより、抵抗状態が可変する抵抗可変デバイスを提供する。
  • 出願人(英語)
  • ※2012年7月以前掲載分については米国以外のすべての指定国
  • 国立大学法人東京工業大学
  • 発明者(英語)
  • 河野 正規
  • 大津 博義
  • キム ジェジュン
未公開特許については、上記項目のみについて公開しています。詳細内容の開示等について、詳しくお知りになりたい方は下記「問合せ先」まで直接お問い合わせください。

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