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BORON-CONTAINING COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING SAME meetings

Foreign code F200010223
File No. (180094JP01,S2019-0225-N0)
Posted date Oct 28, 2020
Country WIPO
International application number 2020JP004682
International publication number WO2020162575
Date of international filing Feb 6, 2020
Date of international publication Aug 13, 2020
Priority data
  • P2019-021791 (Feb 8, 2019) JP
Title BORON-CONTAINING COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING SAME meetings
Abstract A method for producing a boron-containing compound, which comprises a step for obtaining a boron-containing compound that has a 1, 4-diene skeleton by causing a first starting material compound that has a carbon-carbon double bond and a second starting material compound that has a conjugated diene skeleton to react with each other in the presence of a metal catalyst, and which is configured such that: at least one of the first starting material compound and the second starting material compound has a boron-containing group that is bonded to a carbon atom that constitutes the carbon-carbon double bond or the conjugated diene skeleton; and the boron-containing compound has a 1, 4-diene skeleton and a boron-containing group.
Outline of related art and contending technology BACKGROUND ART
1,4-dienes in which 2 carbon-carbon double bonds are bonded across 1 carbon atoms are also referred to as "paste", and are often found in bioactive substances, natural products, and the like. As a method of constructing a set, (, for example, Non-Patent Document 1), is known to construct a set by Wittig reaction between set and aldehyde.
Scope of claims (In Japanese)[請求項1]
 炭素-炭素二重結合を有する第一の原料化合物と、共役ジエン骨格を有する第二の原料化合物と、を金属触媒の存在下で反応させて、1,4-ジエン骨格を有する含ホウ素化合物を得る工程を備え、
 前記第一の原料化合物及び前記第二の原料化合物のうち少なくとも一つが、前記炭素-炭素二重結合又は前記共役ジエン骨格を構成する炭素原子に結合した含ホウ素基を有し、
 前記含ホウ素化合物が、前記1,4-ジエン骨格と前記含ホウ素基とを有する、含ホウ素化合物の製造方法。

[請求項2]
 前記第一の原料化合物が、下記式(I-1)で表される化合物であり、
 前記第二の原料化合物が、下記式(II-1)で表される化合物であり、
 前記含ホウ素化合物が、下記式(III-1)で表される化合物である、請求項1に記載の製造方法。
[化1]
(省略)
[化2]
(省略)
[化3]
(省略)
[式中、R A1、R A2、R A3、R B1、R B2、R B3、R B4、R B5及びR B6は、それぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、R A1、R B1、R B2、R B3、R B4、R B5及びR B6のうち少なくとも一つは含ホウ素基である。]

[請求項3]
 R A1が含ホウ素基である、請求項2に記載の製造方法。

[請求項4]
 R B1が含ホウ素基である、請求項2に記載の製造方法。

[請求項5]
 R B5及びR B6の少なくとも一方が水素原子である、請求項2~4のいずれか一項に記載の製造方法。

[請求項6]
 前記金属触媒が不斉触媒であり、
 前記含ホウ素化合物が、光学活性を有する、請求項1~5のいずれか一項に記載の製造方法。

[請求項7]
 前記金属触媒が、ルテニウム触媒である、請求項1~6のいずれか一項に記載の製造方法。

[請求項8]
 下記式(III-1)で表される含ホウ素化合物。
[化4]
(省略)
[式中、R A1、R A2、R A3、R B1、R B2、R B3、R B4、R B5及びR B6は、それぞれ独立に水素原子又は一価の基を示す。但し、R A1、R B1、R B2、R B3、R B4、R B5及びR B6のうち少なくとも一つは含ホウ素基である。]

[請求項9]
 R A1が含ホウ素基である、請求項8に記載の含ホウ素化合物。

[請求項10]
 R B1が含ホウ素基である、請求項8に記載の含ホウ素化合物。

[請求項11]
 R B5及びR B6の一方が水素原子、他方が一価の基である、請求項8~10のいずれか一項に記載の含ホウ素化合物。

[請求項12]
 光学活性を有する、請求項8~11のいずれか一項に記載の含ホウ素化合物。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • TOKYO UNIVERSITY OF AGRICULTURE AND TECHNOLOGY
  • Inventor
  • HIRANO Masafumi
  • KOMINE Nobuyuki
  • KIYOTA Sayori
  • SHIMADA Keita
IPC(International Patent Classification)
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