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HYDROGEL OF (SEMI)INTERPENETRATING NETWORK STRUCTURE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME

Foreign code F050001388
File No. F050001388
Posted date Feb 3, 2006
Country WIPO
International application number 2003JP004556
International publication number WO 2003/093337
Date of international filing Apr 10, 2003
Date of international publication Nov 13, 2003
Priority data
  • PCT/JP02/04358 (May 1, 2002) JP
Title HYDROGEL OF (SEMI)INTERPENETRATING NETWORK STRUCTURE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
Abstract A hydrogel of the semi-interpenetrating network structure or interpenetrating network structure, characterized in that the hydrogel is one formed from a first monomer ingredient at least 10 mol0f which is accounted for by a charge-possessing unsaturated monomer and a second monomer ingredient at least 60 mol0f which is accounted for an electrically neutral, unsaturated monomer, the molar ratio of the first monomer ingredient to the second monomer ingredient being from 1/2 to 1/100, and that the second monomer ingredient has been polymerized and crosslinked to a lower degree of crosslinking than the first monomer ingredient. The hydrogel is usable in a diaper, sanitary good, sustained-release agent, construction material, building material, communication material, soil conditioner, contact lens, ocular lens, hollow fiber, artificial cartilage, artificial organ, material for fuel cells, battery diaphragm, impact-resistant material, cushion, etc.
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】第一のモノマー成分を重合し架橋することにより形成された網目構造中に、第二のモノマー成分を導入し、第二のモノマー成分を重合し場合により架橋することにより得られる、セミ相互侵入網目構造ハイドロゲル又は相互侵入網目構造ハイドロゲルにおいて、第一のモノマー成分の10モル%以上が、電荷を有する不飽和モノマーであり、第二のモノマー成分の60モル%以上が、電気的に中性である不飽和モノマーであり、第一のモノマー成分量:第二のモノマー成分量が、モル比で1:2~1:100であり、かつ、第二のモノマー成分を重合し架橋する場合には、第一のモノマー成分を重合し架橋する場合よりも架橋度を小さく設定する、ことを特徴とする、セミ相互侵入網目構造ハイドロゲル又は相互侵入網目構造ハイドロゲル。

【請求項2】電荷を有する不飽和モノマーが、酸性基及び/又は塩基性基を有する不飽和モノマーである、請求の範囲第1項記載のハイドロゲル。

【請求項3】酸性基が、カルボキシル基、リン酸基及びスルホン酸基からなる群より選択される、請求の範囲第2項記載のハイドロゲル。

【請求項4】酸性基を有する不飽和モノマーが、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、アクリル酸、メタクリル酸又はそれらの塩である、請求の範囲第3項記載のハイドロゲル。

【請求項5】電気的に中性である不飽和モノマーが、アクリルアミド、N-イソプロピルアクリルアミド、ビニルピリジン、スチレン、メチルメタクリレート、フッ素含有不飽和モノマー(例えば、トリフルオロエチルアクリレート)、ヒドロキシエチルアクリレート又は酢酸ビニルである、請求の範囲第1項~第4項のいずれか一項記載のハイドロゲル。

【請求項6】該ハイドロゲルが金属イオンを更に含み、かつ、第一のモノマー成分及び第二のモノマー成分の少なくとも一部が、該金属イオンと錯体を形成しうる基を有するモノマーである、請求の範囲第1項~第5項のいずれか一項記載のハイドロゲル。

【請求項7】第一のモノマー成分に基づく網目構造の架橋度が0.1~50mol%であり、第二のモノマー成分に基づく網目構造の架橋度が0.001~20mol%である、請求の範囲第1項~第6項のいずれか一項記載のハイドロゲル。

【請求項8】含水量が10%以上である、請求の範囲第1項~第7項のいずれか一項記載のハイドロゲル。

【請求項9】圧縮破断応力が1~100MPaである、請求の範囲第1項~第8項のいずれか一項記載のハイドロゲル。

【請求項10】引張破断応力が0.1~100MPaである、請求の範囲第1項~第9項のいずれか一項記載のハイドロゲル。

【請求項11】応力分散性である、請求の範囲第1項~第10項のいずれか一項記載のハイドロゲル。

【請求項12】収縮度が20~95%である、請求の範囲第1項~第11項のいずれか一項記載のハイドロゲル。

【請求項13】請求の範囲第1項~第12項のいずれか一項記載のハイドロゲルを用いた物品。

【請求項14】おむつ、衛生用品、除放剤、土木材料、建築材料、通信材料、土壌改質剤、コンタクトレンズ、眼内レンズ、ホローファイバー、人工軟骨、人工臓器、燃料電池用材料、バッテリー隔膜、対衝撃材料及びクッションから選択される、請求の範囲第13項記載の物品。

【請求項15】第一のモノマー成分(ここで、該成分の10モル%以上が、電荷を有する不飽和モノマーである)を重合し架橋することにより第一の網目構造を形成させる工程;第一の網目構造中に第二のモノマー成分(ここで、該成分の60モル%以上が、電気的に中性である不飽和モノマーである)を導入した後、第二のモノマー成分を重合することにより、第一の網目構造中にポリマーを形成させる工程か、場合により更に架橋することにより、第一の網目構造中に第二の網目構造を形成させる工程(ここで、第二のモノマー成分を重合し架橋する場合には、第一のモノマー成分を重合し架橋する場合よりも架橋度を小さく設定する)を含む、セミ相互侵入網目構造ハイドロゲル又は相互侵入網目構造ハイドロゲル(ここで、該ハイドロゲル中の第一のモノマー成分量:第二のモノマー成分量が、モル比で1:2~1:100である)の製造方法。

【請求項16】電荷を有する不飽和モノマーが、酸性基及び/又は塩基性基を有する不飽和モノマーである、請求の範囲第15項記載の製造方法。

【請求項17】酸性基が、カルボキシル基、リン酸基及びスルホン酸基からなる群より選択される、請求の範囲第16項記載の製造方法。

【請求項18】酸性基を有する不飽和モノマーが、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、アクリル酸、メタクリル酸又はそれらの塩である、請求の範囲第17項記載の製造方法。

【請求項19】電気的に中性である不飽和モノマーが、アクリルアミド、N-イソプロピルアクリルアミド、ビニルピリジン、スチレン、メチルメタクリレート、フッ素含有不飽和モノマー(例えば、トリフルオロエチルアクリレート)、ヒドロキシエチルアクリレート又は酢酸ビニルである、請求の範囲第15項~第18項のいずれか一項記載の製造方法。

【請求項20】該ハイドロゲルが金属イオンを更に含み、かつ、第一のモノマー成分及び第二のモノマー成分の少なくとも一部が、該金属イオンと錯体を形成しうる基を有するモノマーである、請求の範囲第15項~第19項のいずれか一項記載の製造方法。

【請求項21】第一のモノマー成分に基づく網目構造の架橋度が0.1~50mol%であり、第二のモノマー成分に基づく網目構造の架橋度が0.001~20mol%である、請求の範囲第15項~第20項のいずれか一項記載の製造方法。

【請求項22】含水量が10%以上である、請求の範囲第15項~第21項のいずれか一項記載の製造方法。

【請求項23】圧縮破断応力が1~100MPaである、請求の範囲第15項~第22項のいずれか一項記載の製造方法。

【請求項24】引張破断応力が0.1~100MPaである、請求の範囲第15項~第23項のいずれか一項記載の製造方法。

【請求項25】応力分散性である、請求の範囲第15項~第24項のいずれか一項記載の製造方法。

【請求項26】収縮度が20~95%である、請求の範囲第15項~第25項のいずれか一項記載の製造方法。
  • Applicant
  • ※All designated countries except for US in the data before July 2012
  • Hokkaido Technology Licensing Office Co., Ltd.
  • Inventor
  • Osada, Yoshihito
  • Gong, Jian Ping
IPC(International Patent Classification)
Specified countries AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BE BF BG BJ BR BY BZ CA CF CG CH CI CM CN CO CR CU CY CZ DE DK DM DZ EC EE ES FI FR GA GB GD GE GH GM GN GQ GR GW HR HU ID IE IL IN IS IT JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MC MD MG MK ML MN MR MW MX MZ NE NI NL NO NZ OM PH PL PT RO RU SC SD SE SG SI SK SL SN SZ TD TG TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW
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